[发明专利]校正方法以及物品制造方法

权利要求书

1.一种校正方法，校正利用照明光学系统对掩模进行照明并利用投影光学系统将所述掩模的图案投影到基板的曝光装置中的所述投影光学系统的光学特性，其特征在于，具有：

测量工序，通过在所述照明光学系统的瞳面上形成光强度分布A，测量所述投影光学系统的光学特性；以及

校正工序，通过在所述照明光学系统的瞳面上形成与所述光强度分布A不同的光强度分布B，对所述投影光学系统进行加热，校正所述投影光学系统的光学特性，

在所述校正工序中，

根据所述测量工序中的测量结果来决定利用所述光强度分布B对所述投影光学系统进行加热时的所述光强度分布B的照射条件，在所述光强度分布B的所决定的所述照射条件下对所述投影光学系统进行加热，校正所述投影光学系统的光学特性。

2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

使用所述光强度分布A的参数的值，决定所述光强度分布B的照射条件。

3.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

使用所述光强度分布A的参数的值，计算由于利用所述光强度分布B对所述投影光学系统进行加热而产生的所述投影光学系统的光学特性的变动量，根据计算出的所述变动量，决定所述光强度分布B的照射条件。

4.根据权利要求3所述的校正方法，其特征在于，

根据由于利用所述光强度分布B对所述投影光学系统进行加热而产生的所述投影光学系统的光学特性的变动量和所述照明光学系统的瞳面的光强度分布的参数的值的相关关系，计算所述变动量。

5.根据权利要求4所述的校正方法，其特征在于，

使用通过将形成于所述照明光学系统的瞳面的光强度分布的参数设定为相互不同的值来多次测量由于利用所述光强度分布B对所述投影光学系统进行加热而产生的所述投影光学系统的光学特性的变动量而得到的测量结果，求取所述相关关系。

6.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光强度分布B在不通过配置于所述投影光学系统的物体面的光学元件的情况下通过所述投影光学系统，对所述投影光学系统进行加热。

7.根据权利要求6所述的校正方法，其特征在于，

所述光学元件具有未形成图案的区域，

在所述校正工序中照射到所述投影光学系统的光透射所述区域。

8.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

在所述校正工序中，照射到所述投影光学系统的光通过所述投影光学系统的物体面的开口部。

9.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述校正工序在光不到达所述基板的状态下执行。

10.根据权利要求9所述的校正方法，其特征在于，

使用配置于所述投影光学系统的内部的光圈来设为光不到达所述基板的状态。

11.根据权利要求2所述的校正方法，其特征在于，

所述参数是NA以及与有效光源有关的信息中的至少1个。

12.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光强度分布A是在所述基板的曝光中使用的照明条件。

13.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述照射条件是照射时间或者照射量。

14.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光学特性包括像散。

15.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求1所述的校正方法来校正投影光学系统的光学特性的工序；

利用照明光学系统对掩模进行照明并利用校正后的所述投影光学系统将所述掩模的图案投影到基板而对所述基板进行曝光的工序；以及

使曝光后的所述基板显影的工序，

其中，从显影后的所述基板制造物品。