[发明专利]膜下排气排水装置以及方法

权利要求书

1.一种膜下排气排水装置，用于土工膜防渗系统，其特征在于，包括：调节池、井体、排水沟和土工膜，所述土工膜覆盖所述调节池、所述排水沟及所述井体；

所述调节池包括池底和相对设置的两个侧壁，所述池底由两个所述侧壁至中心方向呈对称斜坡布置，且所述池底具有由侧壁至池底中心向下倾斜的坡度；

在靠近两个所述侧壁中的至少一个侧壁的所述池底位置处设置有所述井体，部分所述井体向所述池底的下部延伸，另一部分所述井体伸出至所述池底上方；

所述井体的顶端敞口，所述土工膜覆盖所述井体的外壁，且所述土工膜由所述敞口向所述井体的内壁延伸形成内壁膜，所述内壁膜设有排气结构，用于实现膜下气体的排出；

所述调节池的所述池底开设有所述排水沟，所述排水沟包括第一排水沟和第二排水沟，所述第一排水沟与所述第二排水沟垂直且相交的布置，所述第一排水沟呈倾斜设置，且所述第一排水沟的倾斜方向与所述池底的倾斜方向相反，所述第一排水沟与所述井体连通，用于将膜下的水排出。

2.根据权利要求1所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述第一排水沟具有由池底中心至侧壁方向倾斜的坡度，所述第一排水沟的倾斜坡度小于所述池底的倾斜坡度。

3.根据权利要求2所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述池底的倾斜坡度为0.4％-0.6％；

和/或，所述第一排水沟的倾斜坡度为0.1％-0.2％。

4.根据权利要求1所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述排气结构包括开设于所述内壁膜的排气孔，所述排气孔与所述井体的所述敞口之间的距离为4cm-6cm。

5.根据权利要求1所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述井体的侧壁开设有泄水口，用于与所述第一排水沟连通；

和/或，所述井体内设置有排水机构。

6.根据权利要求5所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述泄水口处安装有滤网；

和/或，所述泄水口的直径为20cm-40cm，所述泄水口的下端与所述第一排水沟的底端之间的距离为5cm-15cm。

7.根据权利要求5所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述排水机构包括设置于所述井体内壁的排水泵，以及连接于所述排水泵的第一抽水管和第二抽水管；

所述第一抽水管向所述井体的底端方向延伸，所述第一抽水管的底端与所述井体的底部之间的距离为10cm-30cm；所述第二抽水管向所述井体的敞口方向延伸并从所述井体的侧壁伸出至所述井体外，所述第二抽水管的顶端与所述井体的敞口之间的距离为40cm-60cm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述第一排水沟为一条，所述第一排水沟的两端分别与两侧的所述井体连通；所述第二排水沟为两条，两条所述第二排水沟间隔的等距分布在所述池底中心与所述井体之间，且两条所述第二排水沟分别与所述第一排水沟垂直且相交。

9.根据权利要求1-7任一项所述的膜下排气排水装置，其特征在于，所述第一排水沟的两侧分别铺设排水防淤板，所述第一排水沟的内部设设置有粒料；

和/或，所述第一排水沟的内部和上方两侧均设置有粒料，所述第一排水沟上方两侧的粒料上铺设排水防淤板，所述土工膜覆盖在所述排水防淤板上。

10.一种膜下排气排水方法，其特征在于，所述方法包括：

提供调节池，所述调节池包括池底和相对设置的两个侧壁，所述池底由两个侧壁至中心方向呈对称斜坡布置，且池底具有由侧壁至池底中心向下倾斜的坡度；

在靠近两个侧壁中的至少一个侧壁的池底位置处设置井体，部分所述井体向池底的下部延伸，另一部分所述井体伸出至池底上方；

在调节池的池底开设有排水沟，所述排水沟包括第一排水沟和第二排水沟，第一排水沟与第二排水沟垂直且相交的布置，第一排水沟呈倾斜设置，且第一排水沟的倾斜方向与池底的倾斜方向相反，第一排水沟与井体连通；

所述调节池、排水沟及井体上均覆盖土工膜；

所述井体的顶端敞口，所述土工膜由所述敞口向所述井体的内壁延伸形成内壁膜，所述内壁膜设有排气结构，借由调节池的池底坡度及井体和排气结构，将膜下气体排出；借由第一排水沟的倾斜方向与池底的倾斜方向相反，将膜下水依次通过第二排水沟、第一排水沟以及井体排出。