[发明专利]一种姜黄素荧光分子印迹聚合物的制备方法及应用在审

专利信息
申请号: 202210541106.7 申请日: 2022-05-19
公开(公告)号: CN114957667A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 王雪莹;方方;张少华;罗川南 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C08G77/06;C09K11/02;C09K11/65;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;B01J20/00;G01N21/64
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250022 山东省济*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 姜黄 荧光 分子 印迹 聚合物 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种荧光分子印迹聚合物材料的制备方法,其特征是:该方法具有以下工艺步骤:

(1)碳量子点的合成:将0.1~1.5 g的L-半胱氨酸和0.1~1.5 g的脱水柠檬酸三钠在10.0~30.0 mL去离子水中溶解,在溶液中缓慢加入100.0~500.0 μL无水乙二胺,所得混合物通过超声处理5~60 min混匀,放入聚四氟乙烯高温高压反应釜中150~250℃反应1~5 h,冷却至室温,用0.1~0.22 μm的滤膜除去大颗粒,再用透析膜透析12~48 h,将得到的淡黄色溶液储存在4℃冰箱中;

(2)荧光分子印迹聚合物材料的合成:将1.0~15.0 mg姜黄素和0.1~1.5 mL3-氨丙基三乙氧基硅烷分散在10.0~30.0 mL无水乙醇中,室温下搅拌10~30 min。

2.然后依次在溶液中加入1.0~10.0 mL碳量子点溶液,0.1~0.5 mL四乙氧基硅烷,0.1~0.5 mL氨水,继续搅拌5~16 h,离心洗涤;

(3)模板分子的洗脱:以10~15%(v/v)的乙酸-甲醇溶液作为洗脱剂离心洗脱模板分子,再用甲醇洗去多余的乙酸,置于60℃真空干燥箱中干燥,得到的淡黄色产物即为荧光分子印迹聚合物。

3.根据权利要求1所述的荧光分子印迹聚合物材料的制备方法,其特征是:利用L-半胱氨酸和柠檬酸三钠为原料合成碳量子点并直接修饰在分子印迹聚合物上,可以直接进行荧光检测。

4.根据权力要求1所述的荧光分子印迹聚合物材料的制备方法,其特征是:在步骤(2)中用氨水作为催化剂来催化反应的进行。

5.根据权利要求1所述的荧光分子印迹聚合物材料的制备方法,其特征是:在步骤(2)中用姜黄素作为模板分子,得到对姜黄素分子有高特异性识别能力的荧光分子印迹聚合物。

6.根据权利要求1所述合成的荧光分子印迹聚合物材料,可以构建成为检测姜黄素的荧光传感器,其特征是可以直接用荧光分光光度计检测,该荧光传感器的构建过程如下:

(1)荧光分子印迹聚合物材料的可行性:称取相同质量的荧光分子印迹聚合物材料分散在4.0 mL超纯水中,超声5 min进行均质化,可用于检测不同浓度的姜黄素,检测限为83.33 ng/mL;

(2)荧光条件优化:通过控制单一变量的方法,分别对响应时间、pH值、稳定性、溶剂种类,溶剂占比量、荧光分子印迹聚合物用量进行条件优化,得到最佳的反应条件为:响应时间10 min,溶剂为超纯水,pH为6,荧光分子印迹聚合物的用量为2.0 mg/mL;

(3)工作曲线绘制:配置一系列标准浓度的姜黄素溶液,均加入相同质量的荧光分子印迹聚合物材料,在最佳实验条件下(即响应时间10 min,溶剂为超纯水,pH为6,荧光分子印迹聚合物的浓度为2.0 mg/mL),测定系列标准浓度姜黄素的荧光强度,以加入姜黄素的浓度为横坐标、以不加姜黄素时的分子印迹聚合物的荧光强度与加入姜黄素后的材料的荧光强度比值为纵坐标绘制工作曲线;

(4)抗干扰性能研究:在最佳实验条件下,通过测定不同干扰物质存在下对分子印迹聚合物的荧光强度的影响,分别研究了盐酸阿霉素、紫杉醇、四环素、牛血清白蛋白、Na+、Cl-等分子及离子对姜黄素检测的干扰情况。

7.分别测定结果表明,合成的荧光分子印迹聚合物具有非常强的抗干扰能力,高的选择性,可以准确、灵敏的用于姜黄素的检测。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于济南大学,未经济南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210541106.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top