[发明专利]一种混合叠放式滤波器芯片及其制造工艺在审
| 申请号: | 202210496737.1 | 申请日: | 2022-05-09 |
| 公开(公告)号: | CN114866065A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
| 发明(设计)人: | 胡孝伟;代文亮;张竞颢;崔云辉;黄志远 | 申请(专利权)人: | 上海芯波电子科技有限公司 |
| 主分类号: | H03H9/64 | 分类号: | H03H9/64;H03H3/08;B81C1/00;B81B7/02;B81B7/00 |
| 代理公司: | 上海乐泓专利代理事务所(普通合伙) 31385 | 代理人: | 苏杰 |
| 地址: | 201210 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 混合 叠放 滤波器 芯片 及其 制造 工艺 | ||
1.一种混合叠放式滤波器芯片,其特征在于,所述混合叠放式滤波器芯片包括依次设置的衬底、SAW谐振层、BAW谐振层和高阻片;
所述BAW谐振层通过支撑柱设置在所述衬底和所述高阻片之间,且所述BAW谐振层与所述衬底之间设置有第一空腔,所述BAW谐振层与所述高阻片之间设置有第二空腔;所述SAW谐振层设置在所述第一空腔内,通过第一导线与所述BAW谐振层连接。
2.根据权利要求1所述的混合叠放式滤波器芯片,其特征在于,所述BAW谐振层包括第一电极层、介质层和第二电极层;所述第一电极层、所述介质层和所述第二电极层依次层叠设置;
所述SAW谐振层通过第一导线分别与所述第一电极层和所述第二电极层连接;所述第一导线设置在所述支撑柱内。
3.根据权利要求2所述的混合叠放式滤波器芯片,其特征在于,所述第一电极层上分离设置有电极层子块,所述第一导线串联连接所述SAW谐振层的一端、所述电极层子块和所述第二电极层,且所述第一导线还连接所述SAW谐振层的另一端和所述第一电极层。
4.根据权利要求1所述的混合叠放式滤波器芯片,其特征在于,所述高阻片上或所述衬底上设置铜柱,所述铜柱上设置有锡银球体,所述铜柱通过第二导线连接所述第一导线。
5.一种混合叠放式滤波器芯片制造工艺,其特征在于,所述混合叠放式滤波器芯片制造工艺包括:
在衬底上设置SAW谐振层;
在衬底上设置支撑柱;
在所述支撑柱上设置BAW谐振层,使得所述BAW谐振层和所述衬底之间形成第一空腔,并通过第一导线连接所述SAW谐振层和所述BAW谐振层;
增高所述BAW谐振层两侧的所述支撑柱,并用高阻片贴合所述支撑柱,在所述BAW谐振层和高阻片之间形成第二空腔;
在所述高阻片上或所述衬底上设置铜柱和锡银球体。
6.根据权利要求5所述的混合叠放式滤波器芯片制造工艺,其特征在于,所述在衬底上设置SAW谐振层,包括以下步骤:
利用PVD工艺和电镀工艺在所述衬底形成金属层;
利用刻蚀工艺将所述金属层图形化,形成呈音叉排列状的所述SAW谐振层。
7.根据权利要求5所述的混合叠放式滤波器芯片制造工艺,其特征在于,所述在衬底上设置支撑柱,包括以下步骤:
在衬底上设置绝缘层;
利用刻蚀工艺在所述绝缘层形成边缘留膜且中间中空的图形;
利用牺牲层工艺消除所述图形中间中空的部分,露出所述SAW谐振层,得到所述支撑柱;
利用CMP抛光所述支撑柱和所述SAW谐振层的表面。
8.根据权利要求5所述的混合叠放式滤波器芯片制造工艺,其特征在于,所述在所述支撑柱上设置BAW谐振层,使得所述BAW谐振层和所述衬底之间形成第一空腔,并通过第一导线连接所述SAW谐振层和所述BAW谐振层,包括以下步骤:
利用PVD工艺在所述支撑柱上做第一电极层,使所述第一电极层和所述衬底之间形成所述第一空腔;
利用刻蚀工艺在所述第一电极层上分离出电极层子块;
利用PVD工艺和刻蚀工艺,在所述第一电极层上设置介质层,并在所述介质层上设置第二电极层;
利用刻蚀工艺在所述支撑柱上开设通孔;
利用PVD工艺和电镀工艺在通孔上形成所述第一导线,使所述第一导线串联连接所述SAW谐振层的一端、所述电极层子块和所述第二电极层,且使所述第一导线还连接所述SAW谐振层的另一端和所述第一电极层。
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