[发明专利]一种大直径硅片片盒清洗设备

权利要求书

1.一种大直径硅片片盒清洗设备，包括输送座(20)，其特征在于：所述输送座(20)的顶部设置有密封罩(19)，所述密封罩(19)内部的一侧设置有纯水预清洗区(2)，所述纯水预清洗区(2)的一侧设置有超声清洗区(7)，所述超声清洗区(7)的内部设置有超声波发生器(5)，所述超声清洗区(7)的一侧设置有最终清洗区(8)，所述纯水预清洗区(2)和最终清洗区(8)的内侧皆设置有喷淋管(1)，且喷淋管(1)的底部皆设置有喷淋口(4)，所述最终清洗区(8)的一侧分别设置有第一片盒干燥区(12)、第二片盒干燥区(13)和第三片盒干燥区(14)，所述第一片盒干燥区(12)、第二片盒干燥区(13)和第三片盒干燥区(14)的内侧皆环绕排布设置有烘干管(11)，所述第三片盒干燥区(14)的一侧分别设置有第一真空干燥区(16)和第二真空干燥区(17)，所述第一真空干燥区(16)和第二真空干燥区(17)的内部皆设置有真空管(15)，所述第二真空干燥区(17)的一侧设置有缓冲区(18)。

2.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述纯水预清洗区(2)、超声清洗区(7)、最终清洗区(8)、片盒干燥区、真空干燥区和缓冲区(18)之间皆设置有间隔挡板(10)，且间隔挡板(10)贯穿密封罩(19)顶部与其活动插接。

3.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述输送座(20)的顶部开设有限位槽(22)，所述限位槽(22)的两端分别设置有主动轴(21)和从动轴(24)，所述主动轴(21)和从动轴(24)的表面皆套设有传动皮带(23)，且主动轴(21)的一端贯穿输送座(20)固定安装有传动电机(6)。

4.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述传动皮带(23)的顶部设置有上载轨道(3)，所述上载轨道(3)的顶部两侧设置有固定梁(25)，所述固定梁(25)的顶部两侧皆设置有固定杆(27)，所述固定杆(20)相对的一侧皆设置有支撑杆(26)，所述支撑杆(26)的顶端皆设置有支撑帽(28)，所述支撑帽(28)之间的固定梁(25)顶部设置有旋转框架(29)。

5.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述预清洗区(2)设置有上下2个喷淋装置，且每个装置各3排喷淋，每排9个喷淋口(4)。

6.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述最终清洗区的水温度为40-60℃，且片盒干燥区的热空气温度皆为55-75℃。

7.根据权利要求1所述的一种大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述第一真空干燥区和第二真空干燥区的热空气温度皆为50-70℃。