[发明专利]易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺

说明书

本发明属于玻璃生产技术领域，涉及易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺，包括玻璃基片预处理、防窥层覆膜、保护层覆膜、抗污层覆膜、镀膜玻璃硬化成型，防窥层、保护层和抗污层分别通过三面辊的不同面进行滚刷，滚刷后烘干成膜。本发明提供的易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺制得的镀膜玻璃膜层均匀且附着力强，耐磨性好且清洗后不易残留水渍，单向可视，防窥性能好。

技术领域

本发明属于玻璃生产技术领域，具体涉及易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺。

背景技术

镀膜玻璃也称反射玻璃，镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃、导电膜玻璃等。镀膜玻璃的生产方法具有多种，主要包括真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等，不同的镀膜类型采用的生产方法不同。

现有技术镀膜玻璃通常为了解决遮光、隔热、防窥的问题，功能性镀膜玻璃功能单一，通常仅具有某一项功能，多种功能的叠加，在镀膜玻璃总尺寸严格要求的情况下，对镀层厚度或玻璃基材厚度减少，对玻璃成品的硬度、功能的实现均有影响。镀膜玻璃的生产，真空磁控溅射法是在稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子电场的作用，对阴极靶材表现进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层，该种方法对电场要求严格，形成的镀膜具有一定的局限性；真空蒸发法是在真空下进行蒸发操作，加热后的镀料表面原子或者分子发生气化反应，逸出并形成蒸汽流，入射到基片的表面，凝结形成固态的薄膜，其实现的必备三个条件包括冷的基片、真空环境和热的蒸发源，该种镀膜工艺稳定性差，且不能蒸发高熔点的材料，使用具有局限性；化学气相沉积法虽然能够避免外部污染，但材料生产速度慢，管中的压力不容易掌握，影响生产速率；溶胶-凝胶法同样生产周期长，凝胶中存在大量微孔，在干燥后气体溢出产生收缩，影响玻璃的透光度。

此外，无论何种镀膜方式，原料均匀性无法保证，热处理时原料分解、氧化、沉积形成镀膜，镀料在玻璃基材上存在先沉处，玻璃基材受热不均情况下，存在应力应变薄弱点；玻璃外表面易落灰，需要定期清洗，且清洁后需要及时擦干以免留下水渍，而不能直接清洗后风干，影响美观。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：针对上述缺陷，本发明提供一种易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺，制得的镀膜玻璃膜层均匀且附着力强，耐磨性好且清洗后不易残留水渍，单向可视，防窥性能好。

本发明解决其技术问题采用的技术方案如下：易清洁防窥防爆镀膜玻璃的生产工艺，包括玻璃基片、防窥层、保护层和抗污层；具体步骤如下：

步骤1，玻璃基片预处理：将玻璃基片置入清洗池中，清洗后将玻璃基片转移至等离子清洗机中，采用气体对清洗后的玻璃基片吹干同时进行二次清洗，经二次清洗后的玻璃基片置于等离子氛围中，通过光照法检查玻璃基片是否具有瑕疵；

步骤2，防窥层覆膜：将经过预处理后的合格玻璃基片置于工作台上，将防窥材料均匀涂覆在玻璃基片上，涂覆完毕后将置放涂覆有防窥材料的玻璃基片置于封闭空间中，打开等离子源，并同时控制工作台内的加热源进行加热烘烤，防窥材料硬化成膜，关闭等离子源；

步骤3，保护层覆膜：将工作台上方的隔板收起，通过置换气体法将残留有少量溶剂、等离子氛围的气体置换为洁净保护气体；将保护材料均匀涂覆在防窥层表面，涂覆完成后将工作台再次隔离成封闭空间，控制工作台内的加热源进行加热烘烤，保护层成膜；

步骤4，抗污层覆膜：将工作台上方的隔板收起，再次通过置换气体法对工作台氛围进行换气；将抗污材料均匀涂覆在保护层表面，涂覆完成后将工作台再次隔离成封闭空间，控制工作台内的加热源进行加热烘烤，抗污层成膜；