[发明专利]一种窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置及方法在审
| 申请号: | 202210454066.2 | 申请日: | 2022-04-27 |
| 公开(公告)号: | CN115014218A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
| 发明(设计)人: | 赵宇峰;王昭杰;王庚;雷向龙;闵超;代涛 | 申请(专利权)人: | 陕西彩虹工业智能科技有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/14 | 分类号: | G01B11/14 |
| 代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 崔方方 |
| 地址: | 712000 陕西省咸阳*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 喉管 贵金属 通道 入口 法兰 端面 对接 间隙 监测 装置 方法 | ||
1.一种TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,包括冷却套水平支撑装置(18),冷却套水平支撑装置(18)上设置有第一竖直支撑(14)和第二竖直支撑(15),第一竖直支撑(14)和第二竖直支撑(15)的顶部连接均支撑有冷却套(5),冷却套(5)内设有若干个摄像装置(1),摄像装置(1)上均设有保护屏(2),摄像装置(1)通过电控线路(3)和监控系统(4)电连接;
所述冷却套(5)为圆弧状,冷却套(5)设置在窑炉喉管(20)下方,且位于贵金属通道入口法兰端面对接间隙(27)中;
当进行监测时,摄像装置(1)的摄像数据通过电控线路(3)传输给监控系统(4),监控系统(4)对摄像数据进行检测并输出。
2.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,第一竖直支撑(14)和第二竖直支撑(15)之间的空间内设有冷却装置(8),冷却装置(8)的进气口连接有调压装置(9),冷却装置(8)上侧设置有冷气管道(10),冷却装置(8)下侧设置有热气出口(11);
冷却装置(8)通过冷气管道(10)与冷却套(5)相连通,冷却套(5)两端分别设置有第一排气口(6)和第二排气口(7)。
3.根据权利要求2所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,调压装置(9)的连通管道上设置有气体压力、流量和温度检测装置。
4.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,第一竖直支撑(14)的顶部通过第一固定支点(12)连接有冷却套(5),第一竖直支撑(14)的底部通过第一竖直支撑调整螺母(16)固定在冷却套水平支撑装置(18)上。
5.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,第二竖直支撑(15)顶部通过第二固定支点(13)连接有冷却套(5),第二竖直支撑(15)底部通过第二竖直支撑调整螺母(17)固定在冷却套水平支撑装置(18)上。
6.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,冷气管道(10)、第一排气口(6)和第二排气口(7)上均设有温度检测装置和压力检测装置。
7.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,监控系统(4)输出结果包括正常和异常,若为异常,则进行报警。
8.根据权利要求1所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置,其特征在于,进入冷却套(5)内的冷却气体的温度在80℃以下,压力在0.2MPa以下;
冷却装置(8)的进气压力为0.4-0.8MPa;
调压装置(9)的来气压力0.6-1.0MPa;
通过调整冷却装置(8)的进气压力、流量来保证冷却套(5)内的冷却气体的温度,冷却套(5)内的冷却气体的温度可以取左侧排气口(6)和右侧排气口(7)排出气体的温度。
9.一种根据权利要求1-8任一项所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置的监测方法,其特征在于,包括以下操作:、
安装监测装置使得冷却套(5)位于在窑炉喉管(20)下方,且位于贵金属通道入口法兰端面对接间隙(27)中,通过调整冷却套(5)的位置进行多方位的监测;
当进行监测时,摄像装置(1)的摄像数据通过电控线路(3)传输给监控系统(4),监控系统(4)对摄像数据进行检测并输出。
10.根据权利要求9所述的TFT玻璃窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙的监测装置的监测方法,其特征在于:
通过调整第一竖直支撑调整螺母(16)、第二竖直支撑调整螺母(17)、第一固定支点(12)和第二固定支点(13),对冷却套(5)进行调整,使得窑炉喉管与贵金属通道入口法兰端面对接间隙得到多方位监测;
在监测过程中,利用调压装置(9)将冷却装置(8)的进气压力控制在0.4~0.8MPa之间。
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