[发明专利]IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法

说明书

本发明涉及提供一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法，该装置包括夹具本体、凸台、取放版沟槽以及吸气沟槽。本申请提供的上述方案，当掩模版放置到该装置上后，掩模版的四个拐角与对应的四个凸台抵接，此时，掩模版上的有效图形区整体处于非接触状态，从而将掩模版的吸附位置由玻璃面的有效图形区转移到四个角上的非关键质量区域，有效避免了对有效图形区玻璃面的划伤问题，同时解决了制作掩模版吸附时背面颗粒导致平整度变形的问题；进一步地，该装置可以通过取版夹具装卸掩模版，避免了手工取放掩模版导致的掩模版脏污问题。

技术领域

本发明涉及掩模版技术领域，特别是涉及一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法。

背景技术

掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄模或光阻层薄模，基版材质为高纯度熔融石英或其它材质的玻璃载版组合而成模具。

现有的IGBT(绝缘栅双极型晶体管)沟槽工艺用掩模版装载到光刻机上时会通过真空吸附的方式将掩模版的玻璃面吸附在chuck上，目前的吸附模式基本有两种：整体贴合式吸附和三个顶点吸附，但不管那种吸附方式都可能因为chuck上或者掩模版背面有颗粒脏污，导致掩模版玻璃面的有效图形区造成划伤从而造成产品报废。

发明内容

基于此，有必要针对现有的掩模版在吸附时会导致掩模版玻璃面的有效图形区造成划伤的问题，提供一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法。

本发明提供了一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，包括：夹具本体、凸台、取放版沟槽以及吸气沟槽；所述夹具本体的结构与掩模版的结构相配合，所述夹具本体的一侧设置有凹槽，所述凹槽的四个拐角处分别设置有一个所述凸台，所述凸台上沿垂直于所述夹具本体厚度方向设置有吸气孔；所述夹具本体的周边上设置有取放版沟槽，所述取放版沟槽与所述凹槽连通，且所述取放版沟槽远离外部的一侧位于所述凹槽的下方；所述夹具本体的另一侧上设置有所述吸气沟槽，所述吸气沟槽与所述吸气孔连通。

在其中一个实施例中，还包括方向标，所述方向标设置在所述夹具本体上。

在其中一个实施例中，还包括调整组件，所述调整组件设置在所述凸台上，用于调整放置在所述夹具本体上的掩模版的水平度。

在其中一个实施例中，所述调整组件包括四个电动伸缩杆，每个所述凸台上均设置有卡槽，所述电动伸缩杆对应设置在所述卡槽内，且在所述电动伸缩杆位于初始位置时，所述电动伸缩杆位于所述卡槽内部。

在其中一个实施例中，还包括吸盘，所述电动伸缩杆远离所述卡槽底面的一端上设置有所述吸盘。

在其中一个实施例中，还包括限位组件，所述限位组件设置在所述夹具本体，用于限定放置在所述夹具本体上的掩模版的自由度。

在其中一个实施例中，所述限位组件柔性杆和夹紧块，所述柔性杆的一端与所述夹具本体的侧面连接，另一端与所述夹紧块连接。

在其中一个实施例中，还包括防尘罩，所述防尘罩扣合在所述凸台上。

在其中一个实施例中，还包括用于清洁凸台的清洁器，所述清洁器设置在所述防尘罩内部。

本发明还提供了一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置使用方法，包括如本申请实施例描述中任意一项所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，该方法包括：

将IGBT沟槽工艺掩模版专用装置放置到光刻机上，使得IGBT沟槽工艺掩模版专用装置与光刻机chuck上的吸气孔相匹配；

将掩模版放置到夹具本体上的凹槽内，同时，掩模版的四个拐角与凹槽内的四个凸台抵接。

本发明的有益效果包括：