[发明专利]IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法

权利要求书

1.一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，包括：夹具本体(10)、凸台(20)、取放版沟槽(30)以及吸气沟槽(50)；

所述夹具本体(10)的结构与掩模版的结构相配合，所述夹具本体(10)的一侧设置有凹槽，所述凹槽的四个拐角处分别设置有一个所述凸台(20)，所述凸台(20)上沿垂直于所述夹具本体(10)厚度方向设置有吸气孔(201)；

所述夹具本体(10)的周边上设置有取放版沟槽(30)，所述取放版沟槽(30)与所述凹槽连通，且所述取放版沟槽(30)远离外部的一侧位于所述凹槽的下方；

所述夹具本体(10)的另一侧上设置有所述吸气沟槽(50)，所述吸气沟槽(50)与所述吸气孔(201)连通。

2.根据权利要求1所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括方向标(40)，所述方向标(40)设置在所述夹具本体(10)上。

3.根据权利要求1所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括调整组件，所述调整组件设置在所述凸台(20)上，用于调整放置在所述夹具本体(10)上的掩模版的水平度。

4.根据权利要求3所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，所述调整组件包括四个电动伸缩杆，每个所述凸台(20)上均设置有卡槽，所述电动伸缩杆对应设置在所述卡槽内，且在所述电动伸缩杆位于初始位置时，所述电动伸缩杆位于所述卡槽内部。

5.根据权利要求4所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括吸盘，所述电动伸缩杆远离所述卡槽底面的一端上设置有所述吸盘。

6.根据权利要求1所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括限位组件，所述限位组件设置在所述夹具本体(10)，用于限定放置在所述夹具本体(10)上的掩模版的自由度。

7.根据权利要求6所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，所述限位组件柔性杆和夹紧块，所述柔性杆的一端与所述夹具本体(10)的侧面连接，另一端与所述夹紧块连接。

8.根据权利要求1所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括防尘罩，所述防尘罩扣合在所述凸台(20)上。

9.根据权利要求8所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，还包括用于清洁凸台(20)的清洁器，所述清洁器设置在所述防尘罩内部。

10.一种IGBT沟槽工艺掩模版专用装置使用方法，包括如权利要求1～9任意一项所述的IGBT沟槽工艺掩模版专用装置，其特征在于，该方法包括：

将IGBT沟槽工艺掩模版专用装置放置到光刻机上，使得IGBT沟槽工艺掩模版专用装置与光刻机chuck上的吸气孔相匹配；

将掩模版放置到夹具本体上的凹槽内，同时，掩模版的四个拐角与凹槽内的四个凸台抵接。