[发明专利]掩模、掩模组件及显示装置的制造装置在审

专利信息
申请号: 202210440671.4 申请日: 2022-04-25
公开(公告)号: CN115386829A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 白大源;蒋敏智;金宗范 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 习瑞恒;姜长星
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩模 模组 显示装置 制造 装置
【说明书】:

发明公开了一种掩模、掩模组件及显示装置的制造装置。所述掩模包括:沉积图案部,配备有使沉积物质通过的多个沉积孔;虚设图案部,布置在所述沉积图案部的外侧,其中,所述虚设图案部包括具有负泊松比的拉胀结构体。

技术领域

本发明涉及一种掩模、掩模组件及显示装置的制造装置,尤其涉及一种沉积用掩模、包括该沉积用掩模的掩模组件及显示装置的制造装置。

背景技术

随着信息化社会的发展,对用于显示图像的显示装置的要求正以多种形态增加。显示装置领域已迅速变化为取代体积较大的阴极射线管(Cathode Ray Tube)的薄、轻且可实现大面积的平板显示装置(Flat Panel Display Device)。平板显示装置包括液晶显示装置(Liquid Crystal Display Device)、等离子体显示面板(Plasma Display Panel)、有机发光显示装置(Organic Light Emitting Display Device)以及电泳显示装置(Electrophoretic Display Device)等。

在显示装置中,有机发光显示装置包括配备有像素电极、对向电极及发光层的有机发光二极管(OLED:Organic Light Emitting Diode)。此时,所述电极及发光层可以通过多种方法形成,其中一种方法为独立沉积方式。独立沉积方式是将精细金属掩模(FMM:FineMetal Mask)沿长度方向拉伸而紧贴于掩模框架,通过这种掩模的沉积物质沉积于被沉积表面的方式。为了精确的沉积,掩模和掩模框架需要彼此精确地对齐并紧贴。

发明内容

然而,由于掩模具有与其长度和/或宽度相比非常薄的厚度,因此当掩模被拉伸时可能根据内部应力而在掩模形成卷曲(curl)及褶皱等。形成于掩模的卷曲可能妨碍掩模与掩模框架彼此精确地对齐及贴附。并且,形成于掩模的褶皱可能妨碍掩模与掩模框架彼此紧贴。

本发明为了解决包括如上所述的问题在内的多种问题而提出,其目的在于提供一种能够减少卷曲及褶皱等形成在掩模上的情形的掩模、掩模组件及显示装置的制造装置。然而,这些问题是示例性的,本发明的范围不限于此。

根据本发明的一观点,提供一种掩模,包括:沉积图案部,配备有使沉积物质通过的多个沉积孔;虚设图案部,布置在所述沉积图案部的外侧,其中,所述虚设图案部包括具有负泊松比的拉胀结构体。

根据本实施例,所述虚设图案部可以配备有多个虚设孔,所述多个虚设孔在平面上具有与所述沉积图案部的所述多个沉积孔不同的形状。

根据本实施例,所述沉积图案部可以包括具有彼此不同的平面上的形状的第一沉积孔及第二沉积孔,所述第二沉积孔布置为与所述虚设图案部的所述多个虚设孔中的一个虚设孔邻近。

根据本实施例,所述第二沉积孔可以以使所述第二沉积孔与所述一个虚设孔之间的宽度在平面上恒定的方式配备有与所述一个虚设孔的形状对应的形状。

根据本实施例,所述虚设图案部可以在平面上包围整个所述沉积图案部。

根据本实施例,所述虚设图案部可以在平面上部分地包围所述沉积图案部。

根据本实施例,所述沉积图案部可以配备为多个,所述虚设图案部位于平面上彼此相邻的所述沉积图案部之间。

根据本实施例,所述虚设图案部可以在平面上位于所述掩模的与纵向交叉的端部与所述沉积图案部之间。

根据本发明的另一观点,提供一种掩模组件,包括:掩模框架,配备有开口;以及掩模,布置在所述掩模框架上,并且包括以与所述开口重叠的方式布置的沉积图案部以及布置在所述沉积图案部的外侧的虚设图案部,其中,所述虚设图案部包括具有负泊松比的拉胀结构体。

根据本实施例,所述沉积图案部可以配备有多个沉积孔,所述虚设图案部配备有多个虚设孔,所述多个虚设孔在平面上具有与所述沉积图案部的所述多个沉积孔不同的形状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210440671.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top