[发明专利]掩模、掩模组件及显示装置的制造装置

权利要求书

1.一种掩模，包括：

沉积图案部，配备有使沉积物质通过的多个沉积孔；

虚设图案部，布置在所述沉积图案部的外侧，

其中，所述虚设图案部包括具有负泊松比的拉胀结构体。

2.根据权利要求1所述的掩模，其中，

所述虚设图案部配备有多个虚设孔，所述多个虚设孔在平面上具有与所述沉积图案部的所述多个沉积孔不同的形状。

3.根据权利要求2所述的掩模，其中，

所述沉积图案部包括具有彼此不同的平面上的形状的第一沉积孔及第二沉积孔，所述第二沉积孔布置为与所述虚设图案部的所述多个虚设孔中的一个虚设孔邻近。

4.根据权利要求3所述的掩模，其中，

所述第二沉积孔以使所述第二沉积孔与所述一个虚设孔之间的宽度在平面上恒定的方式配备有与所述一个虚设孔的形状对应的形状。

5.根据权利要求1所述的掩模，其中，

所述虚设图案部在平面上包围整个所述沉积图案部。

6.根据权利要求1所述的掩模，其中，

所述虚设图案部在平面上部分地包围所述沉积图案部。

7.根据权利要求6所述的掩模，其中，

所述沉积图案部配备为多个，

所述虚设图案部位于平面上彼此相邻的所述沉积图案部之间。

8.根据权利要求6所述的掩模，其中，

所述虚设图案部在平面上位于所述掩模的与纵向交叉的端部与所述沉积图案部之间。

9.一种掩模组件，包括：

掩模框架，配备有开口；以及

掩模，布置在所述掩模框架上，并且包括以与所述开口重叠的方式布置的沉积图案部以及布置在所述沉积图案部的外侧的虚设图案部，

其中，所述虚设图案部包括具有负泊松比的拉胀结构体。

10.根据权利要求9所述的掩模组件，其中，

所述沉积图案部配备有多个沉积孔，

所述虚设图案部配备有多个虚设孔，所述多个虚设孔在平面上具有与所述沉积图案部的所述多个沉积孔不同的形状。

11.根据权利要求10所述的掩模组件，其中，

所述沉积图案部包括具有彼此不同的平面上的形状的第一沉积孔及第二沉积孔，所述第二沉积孔布置为与所述虚设图案部的所述多个虚设孔中的一个虚设孔邻近。

12.根据权利要求11所述的掩模组件，其中，

所述第二沉积孔以使所述第二沉积孔与所述一个虚设孔之间的宽度在平面上恒定的方式配备有与所述一个虚设孔的形状对应的形状。

13.根据权利要求9所述的掩模组件，其中，

所述虚设图案部在平面上包围整个所述沉积图案部。

14.根据权利要求9所述的掩模组件，其中，

所述虚设图案部在平面上部分地包围所述沉积图案部。

15.根据权利要求14所述的掩模组件，其中，

所述沉积图案部配备为多个并且沿第一方向排列，

所述虚设图案部位于多个所述沉积图案部中彼此相邻的两个沉积图案部之间。