[发明专利]用于清洁光掩模的表面的清洁设备

说明书

本发明实施例提供一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备，包含：壳体，界定腔室；光掩模固持器，安置于腔室内；以及气体分配器，安置于腔室内以朝向光掩模固持器引导气体。气体分配器具有两个或大于两个气体分配出口。驱动器耦合到光掩模固持器或气体分配器中的至少一个以在光掩模固持器与气体分配器之间建立相对移动。

技术领域

本发明实施例是涉及用于清洁光掩模(photomask)的表面的清洁设备。

背景技术

半导体装置包括精确定义和定位的特征，例如植入区、隔离区、组件、内连线或其它特征。许多半导体装置制造工艺(例如微制造)包含利用光刻来精确定义和定位半导体装置特征。

发明内容

一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备包含：壳体，界定腔室；光掩模固持器，安置于腔室内；以及气体分配器，安置于腔室内以朝向光掩模固持器引导气体。气体分配器具有两个或大于两个气体分配出口。驱动器耦合到光掩模固持器或气体分配器中的至少一个以在光掩模固持器与气体分配器之间建立相对移动。

一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备包含：外壳，界定腔室；光掩模固持器，安置于腔室内；以及真空，安置于腔室内以相对于光掩模固持器建立真空。真空具有界定两个或大于两个真空孔隙的表面。驱动器耦合到光掩模固持器或真空中的至少一个以在光掩模固持器与真空之间建立相对移动。

一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备包含：壳体，界定腔室；光掩模固持器，安置于腔室内；气体分配器，安置于腔室内以朝向光掩模固持器引导气刀；以及真空，安置于腔室内以相对于光掩模固持器建立真空。真空包含两个或大于两个真空孔隙，气体分配器包含两个或大于两个气体分配出口，且两个或大于两个气体分配出口中的气体分配出口的第一中心线与两个或大于两个真空孔隙中的第一真空孔隙和两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙之间的区域对准。

附图说明

当结合随附图式阅读时从以下详细描述最好地理解本公开的各方面。应注意，根据业界中的标准惯例，各种特征未按比例绘制。实际上，为了论述清楚起见，可任意增大或减小各种特征的尺寸。

图1到图5为根据一些实施例的用于清洁光掩模的表面的清洁设备的图示。

图6到图11为根据一些实施例的用于清洁光掩模的表面的清洁设备的图示。

图12到图13为根据一些实施例的用于清洁光掩模的表面的清洁设备的图示。

具体实施方式

以下公开内容提供用于实施所提供主题的不同特征的若干不同实施例或实例。下文描述组件和布置的具体实例来简化本公开。当然，这些仅为实例且并不意图为限制性的。举例来说，在以下描述中，第一特征在第二特征上方或第二特征上的形成可包含第一特征与第二特征直接接触地形成的实施例，且还可包含额外特征可在第一特征与第二特征之间形成使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施例。另外，本公开可在各种实例中重复附图标号或字母。此重复是出于简化和清楚的目的，且本身并不指示所论述的各种实施例或配置之间的关系。

此外，为易于描述，可在本文中使用例如“在……之下”、“在……下方”、“下部”、“在……上方”、“上部”等的空间相对术语来描述如图式中所示出的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。除图式中所示出的定向之外，空间相关术语意图涵盖装置在使用或操作中的不同定向。设备可以其它方式定向(旋转90度或处于其它定向)，且本文中所使用的空间相对描述词可同样相应地进行解译。