[发明专利]用于清洁光掩模的表面的清洁设备

权利要求书

1.一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备，包括：

壳体，界定腔室；

光掩模固持器，安置于所述腔室内；

气体分配器，安置于所述腔室内以朝向所述光掩模固持器引导气体且包括两个或大于两个气体分配出口；以及

驱动器，耦合到所述光掩模固持器或所述气体分配器中的至少一个以在所述光掩模固持器与所述气体分配器之间建立相对移动。

2.根据权利要求1所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中所述两个或大于两个气体分配出口中的气体分配出口包括界定气体分配导管的第一表面和第二表面。

3.根据权利要求2所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中气刀从所述气体分配导管突出。

4.根据权利要求2所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中所述第一表面相对于所述光掩模固持器的顶表面的角度在30度到60度的范围内。

5.根据权利要求2所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中：

所述第一表面相对于所述光掩模固持器的顶表面的角度大于30度，以及

所述第二表面相对于所述光掩模固持器的所述顶表面的角度小于60度。

6.根据权利要求1所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中从所述两个或大于两个气体分配出口中的气体分配出口分配的气体的速度为在10米/秒到20米/秒的范围内的速度。

7.一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备，包括：

壳体，界定腔室；

光掩模固持器，安置于所述腔室内；

真空，安置于所述腔室内以相对于所述光掩模固持器建立真空，其中所述真空包括界定两个或大于两个真空孔隙的表面；以及

驱动器，耦合到所述光掩模固持器或所述真空中的至少一个以在所述光掩模固持器与所述真空之间建立相对移动。

8.根据权利要求7所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中：

所述两个或大于两个真空孔隙中的第一真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙分开第一距离，

所述两个或大于两个真空孔隙中的第三真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中的第四真空孔隙分开第二距离，以及

所述第一距离等于所述第二距离。

9.根据权利要求7所述的用于清洁光掩模的表面的清洁设备，其中所述两个或大于两个真空孔隙中的第一真空孔隙与所述两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙之间的距离在3毫米到8毫米的范围内。

10.一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备，包括：

壳体，界定腔室；

光掩模固持器，安置于所述腔室内；

气体分配器，安置于所述腔室内以朝向所述光掩模固持器引导气刀；以及

真空，安置于所述腔室内以相对于所述光掩模固持器建立真空，其中

所述真空包括两个或大于两个真空孔隙，

所述气体分配器包括两个或大于两个气体分配出口，以及

所述两个或大于两个气体分配出口中的气体分配出口的第一中心线与所述两个或大于两个真空孔隙中的第一真空孔隙和所述两个或大于两个真空孔隙中的第二真空孔隙之间的区域对准。