[发明专利]一种增加水稻中硒含量的方法和培育方法

权利要求书

1.一种增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，包括：

将金属材料作为离子注入MEVVA源的阴极材料，采用离子注入方式对稻种进行离子注入辐照处理。

2.如权利要求1所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述金属材料为硒和/或铁。

3.如权利要求1或2所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述将金属材料作为离子注入MEVVA源的阴极材料，采用离子注入方式对稻种进行离子注入辐照处理，包括：

向稻种的胚芽采用离子注入方式进行金属离子注入。

4.如权利要求3所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述将含有硒的金属材料作为离子注入MEVVA源的阴极材料，采用离子注入方式对稻种进行离子注入辐照处理，还包括：向稻种的胚芽采用离子注入方式进行气体离子注入。

5.如权利要求4所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述离子注入的考夫曼源气体源为氮气、氩气和氧气中的一种或者多种。

6.如权利要求4或5所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述金属离子注入的能量为10～50keV，剂量为2×10¹⁴～5×10¹⁷ions/mm²；所述气体离子注入的能量为10～100keV，剂量为2×10¹⁴～5×10¹⁷ions/mm²。

7.一种水稻的培育方法，其特征在于，包括：

稻种消毒；

采用权利要求1-6任意一项所述方法对消毒后的稻种的胚芽进行离子注入辐照处理；

将离子注入辐照处理后的稻种置于水中浸泡；

对浸泡后的稻种进行催芽处理；

将催芽处理后的稻种播种培育。

8.如权利要求7所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述稻种为晚粳水稻休眠种子。

9.如权利要求7所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述采用权利要求1-6任意一项所述方法对消毒后的稻种的胚芽进行离子注入辐照处理；包括：

将金属材料作为离子注入MEVVA源的阴极材料安装在注入机；

将消毒后的稻种子放置在注入机真空室内，露出需进行注入处理的胚芽部位；

依次开启机械泵和分子泵，将本底抽真空，进行离子注入。

10.如权利要求7所述增加水稻中硒含量的方法，其特征在于，所述将离子注入辐照处理后的稻种置于水中浸泡，包括：

将离子注入辐照处理后的稻种置于水中浸泡24-48小时，每间隔12小时换水一次；

所述对浸泡后的稻种进行催芽处理，包括：

将浸泡后的稻种置于35℃恒温箱中培养时间12-24小时，催芽处理；

将催芽处理后的稻种播种培育，包括：

将催芽处理后的稻种移植在苗床上播种培育。