[发明专利]一种抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路有效

专利信息
申请号: 202210394652.2 申请日: 2022-04-15
公开(公告)号: CN114756079B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 邱旻韡;屈柯柯 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: G05F1/567 分类号: G05F1/567
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 粒子 效应 辐射 加固 基准 电路
【权利要求书】:

1.一种抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于,包括PMOS晶体管MP1~MP7;NMOS晶体管MN1~MN8;二极管D1~D9;PNP三极管BP1~BP3;电阻R1~R6;电容C1~C3;其中的R1、MN1、MN2、MP1、MP2、MN3、MN4、D1~D4为启动电路,为带隙基准电路提供偏置电流;所述的MP3、MP6、MP7、MN5、MN6、D5~D8、C1~C2、R2、MN7、MP4、MP5、MN8构成运算放大器,所述的MP3、MP4通过电流镜镜像MP1的电流给运算放大器提供偏置,MP5也通过电流镜镜像给后续基准电压产生部分提供偏置,且运算放大器输入端对MP6、MP7的栅极电位分别连接R3和BP3发射极;所述的R4、R5、R3、BP1~BP3、D9、以及R6、C3构成带隙基准电压产生电路,其中的BP1与BP3的基极-发射极电压差产生正温度系数的电压信号,BP3基极-发射极正向PN结产生负温度系数的电压,两者相加得到与温度无关的基准电压;

其中的电阻R1一端连接外接电源,一端连接MN1的漏端;MN1的源端连接地,栅端连接MN2的栅端;MN2的源端接地,漏端接MP1的漏端和栅端;MP1的源端接电源;MP1的栅端连接MP3、MP4、MP5的栅端;MP2的漏端接MN3的漏端和栅端,MN3的源端接D1的阳极,D1阴极接地;MN3栅端接MN4栅端,MN4源端接D2阳极,D2阴极接D3阳极,D3阴极接D4阳极,D4阴极接地;MN4的漏端分别接MP5、MN8的漏端;MN8的栅端分别接MP4、MN7的漏端,MN8的源端接R4、R5、R6的一端;R4的另一端分别接R3一端、MP6栅端、D9阳极;R5的另一端分别接R3一端、MP7栅端、BP3发射极;D9阴极接BP2发射极;R3另一端接BP1发射极;BP1、BP2、BP3基极、集电极接地;MP3漏端分别接MP6、MP7源端;MP6漏端接MN5漏端和栅端;MN5源端接地,MN5栅端接D5阳极,D5阴极接D6阳极,D6阴极接地;C1一端接MP6、MP7源端,另一端接地;MP7漏端接MN6漏端,MN6源端接地;MN6漏端分别接MN7栅端、D7阳极,R2一端;D7阴极接D8阳极,D8阴极接地;R2另一端接C2一端,C2另一端接MN7漏端。

2.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的启动电路开启完成后,MN3栅端电压为VD1+VTHN3,MN4开启所需的栅极电压为VD1+VD2+VD3+VTHN4≈3VD1+VTHN3>VD1+VTHN3

3.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的运算放大器中R2、C2给运放提供米勒补偿,电容C1设于MP6、MP7源极直接,提供滤波。

4.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的运算放大器中D5、D6开启的电压小于MN5、MN6的阈值电压,所以正常条件下不会导通,如果MN5、MN6栅极出现单粒子瞬态扰动尖峰电流,可以通过D5、D6及时泄放。

5.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的运算放大器中D7、D8开启的电压小于MN6、MN7的阈值电压,可稳定MN7栅极电位。

6.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的MN8源极同时连接电阻R4、R5一端,MP6、MP7栅极电位分别连接电阻R4、R5另一端,保证流过两个电阻的电流相等。

7.根据权利要求1所述的抗单粒子效应辐射加固带隙基准电路,其特征在于:所述的带隙基准电压产生电路中R4、R5两端电压精确相等,所以保证BP1、BP3发射极电流也相等,减小输出基准的失调;D9、BP2正常工作时也不会导通,辐照条件下可以有效泄放基准产生部分的瞬态电流,保证输出基准稳定;R6、C3构成低通滤波器,滤除输出因为单粒子入射诱发的尖峰电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十八研究所,未经中国电子科技集团公司第五十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210394652.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top