[发明专利]掩模输送装置、成膜装置以及掩模形状检测方法

权利要求书

1.一种掩模输送装置，其特征在于，所述掩模输送装置具备：

第一输送辊，所述第一输送辊输送掩模；

第二输送辊，所述第二输送辊将由所述第一输送辊输送的所述掩模进一步向下游侧输送；

检测构件，所述检测构件检测与所述第一输送辊和所述第二输送辊的转矩变动相关的值；以及

掩模形状检测构件，所述掩模形状检测构件基于由所述检测构件检测到的值来检测所述掩模的形状。

2.如权利要求1所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模形状检测构件通过对由所述检测构件检测到的值和与转矩变动相关的基准值进行比较来检测所述掩模的形状。

3.如权利要求1或2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模输送装置具备：

第一伺服电机，所述第一伺服电机使所述第一输送辊旋转；以及

第二伺服电机，所述第二伺服电机使所述第二输送辊旋转，

所述检测构件根据所述第一伺服电机的电流值和所述第二伺服电机的电流值，检测与所述第一输送辊和所述第二输送辊的转矩变动相关的值。

4.如权利要求2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模输送装置具备存储构件，所述存储构件存储由所述检测构件检测到的与转矩变动相关的值，

输送基准值测定用掩模时的由所述检测构件检测到的值作为所述基准值存储于所述存储构件，所述掩模形状检测构件使用存储于所述存储构件的所述基准值。

5.如权利要求1或2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模形状检测构件为了检测掩模形状而使用的值是从所述第一输送辊的转矩值开始上升起到所述第二输送辊的转矩值开始上升为止的时间。

6.如权利要求1或2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模形状检测构件为了检测掩模形状而使用的值是所述第一输送辊的转矩值的峰值以及所述第二输送辊的转矩值的峰值中的至少任一方。

7.如权利要求1或2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模形状检测构件为了检测掩模形状而使用的值是从所述第一输送辊的转矩值的变动收敛起到所述第二输送辊的转矩值的变动收敛为止的时间。

8.如权利要求1或2所述的掩模输送装置，其特征在于，

所述掩模形状检测构件为了检测掩模形状而使用的值是从所述第一输送辊的转矩值达到峰值起到所述第二输送辊的转矩达到峰值为止的时间。

9.如权利要求2所述的掩模输送装置，其特征在于，

在由所述检测构件检测到的值与所述基准值之差在预先确定的范围内的情况下，由所述第二输送辊输送后的掩模再次返回到由所述第一输送辊输送的输送路径，

在由所述检测构件检测到的值与所述基准值之差超过预先确定的范围的情况下，由所述第二输送辊输送后的掩模被输送到所述输送路径的外部。

10.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：

权利要求1～9中任一项所述的掩模输送装置；以及

成膜构件，所述成膜构件用于在将基板和掩模重叠的状态下，经由所述掩模在所述基板上形成薄膜。

11.一种掩模形状检测方法，其特征在于，所述掩模形状检测方法包括：

第一步骤，在所述第一步骤中，检测与由第一输送辊输送掩模时的所述第一输送辊的转矩变动相关的值；

第二步骤，在所述第二步骤中，检测与通过第二输送辊将由所述第一输送辊输送的所述掩模进一步向下游侧输送时的所述第二输送辊的转矩变动相关的值；以及

第三步骤，在所述第三步骤中，通过将由所述第一步骤和所述第二步骤检测到的值与基准值进行比较来检测所述掩模的形状。