[发明专利]原子层热电堆热流传感器及制备方法有效

专利信息
申请号: 202210309485.7 申请日: 2022-03-28
公开(公告)号: CN114910183B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 黄涛;赵睿鹏;陈曦;谢天;陶伯万 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01K7/02 分类号: G01K7/02;G01K7/22
代理公司: 成都惠迪专利事务所(普通合伙) 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 原子 热电 热流 传感器 制备 方法
【说明书】:

原子层热电堆热流传感器,属于薄膜热流传感器技术领域。本发明包括内部晶面为倾斜取向的单晶基底和十字形热电堆薄膜,所述十字形热电堆薄膜设置于单晶基底的表面,十字形热电堆薄膜的四条臂与单晶基底的倾斜方向构成正交关系,十字形热电堆薄膜的四个端点各自设置有电极。本发明在ALTP热流传感器测量热流密度的基础上,通过传感器功能层薄膜的电阻用于准确的温度测量,利用对温度的标定获得该温度下传感器的灵敏度,进而获得准确的热流值,显著提升了热流测试精度。

技术领域

本发明属于薄膜热流传感器技术领域。

背景技术

原子层热电堆(ALTP)热流传感器是一种基于温度梯度的热流传感器,与薄膜热电堆热流传感器不同的是,ALTP热流传感器的敏感元件为倾斜生长的ALTP功能层薄膜,制备相对简单,功能层薄膜既是热阻层,又是温度梯度场下电压信号产生元件。通常薄膜厚度仅为几百纳米,所以ALTP热流传感器相应很快(亚微秒量级)。当沿薄膜纵向存在温度梯度时,由于材料的各向异性导致横向Seebeck效应,即垂直于温度梯度方向产生热电势输出U。基于一维传热假设,ALTP热流传感器灵敏度K可以表示为:

其中,Sab、Sc分别表示薄膜ab面和c轴方向的Seebeck系数,a、l、d分别表示薄膜倾斜角度、有效长度、厚度,ΔT表示薄膜上下表面温差,q表示热流密度,κZ表示沿薄膜纵向的热导率。固体材料的总热导率κ由晶格热导率κL和电子热导率κe组成,表达式如下:

κ=κle

κe=LσT

其中,L表示洛伦兹常数,σ表示薄膜电导率,T表示绝对温度。

由上可知,ALTP热流传感器的灵敏度除了与功能层薄膜的结构参数相关外,更与薄膜的物理参数密切相关,包括Seebeck系数、电导率和热导率。ALTP薄膜对温度十分敏感,其物理性质(Seebeck系数、电导率、热导率)会随温度发生变化,进而导致ALTP热流传感器在不同温度下的灵敏度发生变化。

在ALTP热流传感器的实际应用过程中,不同测试场景下环境温度是不同的,而且热流的侵入也会引起功能层薄膜温度的变化。因此,在不同温度环境、不同热流条件(特别是大热流)下追求准确的热流测试就必须获得此时ALTP功能层薄膜的真实温度,从而可以得到更为准确的热流值。德国斯图加特大学Roediger等人为测得ALTP热流传感器温度,在功能层薄膜的衬底背面安装了热电偶。但是在热流测试过程中,衬底背面的温度并不代表功能层薄膜的实际温度,二者之间存在明显的温差。另一方面,对于脉冲热流的侵入,热电偶的反应缓慢,导致所测温度与功能层薄膜的实际温度相差更大。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,提供一种高精度的原子层热电堆热流传感器及制备方法。

本发明解决所述技术问题采用的技术方案是,原子层热电堆热流传感器,其特征在于,包括内部晶面为倾斜取向的单晶基底和十字形热电堆薄膜,所述十字形热电堆薄膜设置于单晶基底的表面,十字形热电堆薄膜的四条臂中,两条臂垂直于单晶基底的倾斜方向,另外两条臂平行于单晶基底的倾斜方向;十字形热电堆薄膜的四个端点各自设置有电极。

进一步的,所述十字形热电堆薄膜的厚度为250nm,长度为10mm,宽度为8mm,臂宽为2mm。

本发明的原子层热电堆热流传感器的制备方法包括下述步骤:

1)将功能层薄膜材料沉积到倾斜取向的单晶基底的表面,所述功能层薄膜材料为钇钡铜氧化物或者镧钙锰氧化物;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210309485.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top