[发明专利]极紫外光产生方法和系统

说明书

本申请涉及一种极紫外光产生方法及系统，包括：光纤激光光源装置根据激光参数产生激光脉冲；液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶；激光脉冲在预设打靶位置轰击对应的液滴靶，产生极紫外光。通过采用能产生高重复频率激光脉冲满足系统要求的光纤激光光源装置，并搭配液滴靶生成装置生成多路交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶，实现多路液滴靶流的液滴靶都能在预设打靶位置完全被激光脉冲轰击得到极紫外光，以较高的轰击频率达到提升极紫外光转换效率的目的。

技术领域

本申请涉及激光产生设备技术领域，特别是涉及一种极紫外光产生方法和系统。

背景技术

近年来半导体行业开始突飞猛进的发展，已成为目前领域内支柱性的高科技行业，而支撑着半导体技术发展的关键正是光刻技术的不断升级。其中，更短曝光波长的极紫外(Extreme ultraviolet，EUV)光源的应用使得光刻技术的刻蚀分辨率更高，能生产出更小尺寸的集成电路。目前，主要有四种方案可以获得EUV光源，分别是：同步辐射源、激光等离子体(Laser Produced Plasma，LPP)、放电等离子体(Discharge Produced Plasma，DPP)和激光辅助放电等离子体(Laser-induced Discharge Plasma，LDP)。其中，由于LPP技术具有造价低、收集功率大等优点被广泛用于大规模工业生产。

传统的通过LPP技术获取EUV光源时，泵浦激光均是采用CO₂气体激光器产生激光脉冲，然后在空气中进行传播反射再输出用于轰击液滴靶，以使液滴靶等离子体化，产生波长为13.5nm的EUV光源。然而，由于气体的密度小，不易得到高的激发粒子浓度，因此，基于气体激光器的传统LPP技术，存在EUV光源转换效率较低的缺点。

发明内容

基于此，有必要针对上述传统LPP技术获取EUV光源转换效率较低的问题，提供一种极紫外光产生方法和系统。

一种极紫外光产生方法，包括：

光纤激光光源装置根据激光参数产生激光脉冲；

液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶；

所述激光脉冲在所述预设打靶位置轰击对应的所述液滴靶，产生极紫外光。

在其中一个实施例中，所述液滴靶参数包括每一路液滴靶流中液滴靶的喷出速率与喷出频率，还包括液滴靶流间的液滴靶喷出延迟时间。

在其中一个实施例中，所述液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶，包括：

液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流至预设打靶位置；

控制装置获取所述预设打靶位置的液滴靶的实际重复频率，并根据所述液滴靶的实际重复频率与所述激光脉冲的重复频率调整所述液滴靶参数，得到调整后的液滴靶参数；

所述液滴靶生成装置根据所述调整后的液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流，在所述预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶。

在其中一个实施例中，所述控制装置获取所述预设打靶位置的液滴靶的实际重复频率，并根据所述液滴靶的实际重复频率与所述激光脉冲的重复频率调整所述液滴靶参数，得到调整后的液滴靶参数，包括：控制装置获取所述预设打靶位置的液滴靶的实际重复频率，并根据所述液滴靶的实际重复频率与所述激光脉冲的重复频率分别对应调整每一路液滴靶流中液滴靶的喷出速率与喷出频率，以及液滴靶流间的液滴靶喷出延迟时间，得到调整后的液滴靶参数。