[发明专利]一种盖板硬质涂层镀膜工艺方法

说明书

本发明公开了一种盖板硬质涂层镀膜工艺方法，是在涂层中添加氮氧硅化合物构成复合膜层，复合膜层是通过交替叠合的高折射率材料层、折射率材料和低折射率材料层制成，其通过超硬质NCVM→正面过干擦机同时覆盖背面胶带→蒸镀机镀制AF涂层→在温度20‑70℃环境下静置20min→手动擦拭AF表面脏污→背面过干擦机等步骤制成。本发明与现有技术相比，薄膜力学特性强，流程短，后制程工序简单，AF技术指标两小时摩擦无划痕，无变色现象，可靠性测试稳定，AF耐汗液不脱膜，无变色，紫外老化无裂纹，充分保证产品表面达因值。

技术领域

本发明涉及光学薄膜，具体涉及一种盖板硬质涂层镀膜工艺方法，是一种超现有光学薄膜，实现超强力学特性（铅笔硬度＞9H，莫氏硬度≥7H，钢丝绒摩擦2500次后水滴角＞100°），无膜厚限制和稳定的可靠性测试的镀膜工艺方法。

背景技术

光学薄膜的应用无处不在，从眼镜镀膜到手机、电脑、电视的液晶显示再到LED照明等等，它充斥著我们生活的方方面面，并使我们的生活更加丰富多彩。

查阅各种文献资料，结合国内外相关专利资料，磁控机镀制功能性涂层Si₃N₄/SiO₂循环结构膜层硬度最高是6H，力学特性存在不稳定，镀制涂层厚度要求在500nm以内，Si₃N₄材料吸收大，满足不了高要求的技术指标。

现有PVD镀膜工艺对于盖板镀制NCVM+AF，涂层力学特性差，可靠性测试不稳定，莫氏硬度小于5.5H，膜层振动摩擦2小时外观出现明显划伤，AF涂层摩擦负重1.1Kg、防水摩擦2.5H有划痕，钢丝绒摩擦2500次后水滴角＜90°；防水涂层耐汗液测试变色脱膜，紫外照射老化有裂纹。

因此，需要发明一种超现有光学薄膜，实现超强力学特性（铅笔硬度＞9H，莫氏硬度≥7H，钢丝绒摩擦2500次后水滴角＞100°），无膜厚限制和稳定的可靠性测试的镀膜工艺及加工流程。

发明内容

针对现有技术所存在的缺陷，本发明所要解决的技术问题是提出磁控镀制一种盖板超硬质高透过低吸收NCVM和蒸镀镀制防污AF薄膜及后加工流程，该流程短，技术指标合格，且生产工艺简单，能够同时满足量产和节约成本的工艺。

为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案是：一种盖板硬质涂层镀膜工艺方法，是在涂层中添加氮氧硅化合物构成复合膜层，复合膜层是通过交替叠合的高折射率材料层、折射率材料和低折射率材料层制成，包括以下步骤：

（1）对镀膜设备的氧化室内部充入体积比1:1或2:1的氮气和氧气，本体靶材纯度为99.999%硅靶，镀制超硬质NCVM；

（2）AF使用蒸发机270度EB加射频-晶控，使用蒸发镀制防水，蒸发速率0.5-5A/S，IB清扫时间控制在20-60s；

（3）对于需要遮蔽镀膜系列的产品，IB清扫时间控制在20-60s，AF膜料采用国产YP-520系列；

（4）静置一段时间AF后，手动擦拭脏污，使用无尘布蘸取酒精，无尘布更换频次要求8H更换一次；

（5）干擦机工艺分四档擦拭，工艺参数速度100-1500r/m，压力在0.01-0.5MPa ,输送速度150～1500r/m，每四档为一单元擦拭产品正面一次；

（6）.擦拭脏污后，保证背面达因值，对非遮蔽和遮蔽产品，后道工序都需要增加非真空大气等离子处理。

所述高折射率材料层为TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅或Nb₂O₅材料层，低折射率材料层为SiO₂、Si₃N₄或Al₂O₃ 材料层，所述复合膜层的厚度为400-2000nm达到硬质涂层。