[发明专利]一种利用原位-溶胶掺杂制备PI/SiO2

权利要求书

1.一种利用原位-溶胶掺杂制备PI/SiO₂复合薄膜的方法，其特征在于，具体操作如下：

1)称取等当量4,4’-二氨基二苯醚、均苯四甲酸二酐和适量纳米二氧化硅(SiO₂)，

2)将4,4’-二氨基二苯醚和纳米SiO₂分散于N,N’-二甲基乙酰胺中，加入适量的均苯四甲酸二酐，合成产物1；

3)室温下，将正硅酸乙酯分批次加入到产物1中，搅拌处理，使正硅酸乙酯与产物1均匀混合，得到产物2；

4)室温下，向产物2中加入剩下的均苯四甲酸二酐，得到成膜液；

5)用流延法将成膜液加工成厚度为400-500微米的膜，在80、100、200、300摄氏度的温度下各保温1小时后，所得薄膜即为聚酰亚胺/二氧化硅(PI/SiO₂)复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种利用原位-溶胶掺杂制备PI/SiO₂复合薄膜的方法，其特征在于：步骤1)中所称取的4,4’-二氨基二苯醚质量、均苯四甲酸二酐的质量、纳米SiO₂的质量与正硅酸乙酯的质量比为(38.3-44.0)：(41.7-48.0)：5：(52.0-10.4)。

3.根据权利要求1所述的一种利用原位-溶胶掺杂制备PI/SiO₂复合薄膜的方法，其特征在于：步骤3)所的述将正硅酸乙酯分批次加入到产物1中的具体操作为，将正硅酸乙酯分成等量的10份，分批次加入到产物1中后进行搅拌处理，使正硅酸乙酯与产物1均匀混合，每批次加入间隔不少于10分钟。

4.根据权利要求1所述的一种利用原位-溶胶掺杂制备PI/SiO₂复合薄膜的方法，其特征在于：步骤4)中将加入均苯四甲酸二酐的质量为步骤2)中所添加均苯四甲酸二酐质量的0.25倍。