[发明专利]阵列基板、阵列基板制作方法及显示装置

说明书

本申请公开一种阵列基板、阵列基板制作方法及显示装置。阵列基板包括：基板；修正层，设于所述基板上，所述修正层包括阵列排布的多个修正块，所述修正块的多个截面中最大面积的截面设于所述修正块远离所述基板的一侧，所述多个截面平行于所述基板和所述修正块的接触面。本申请将发光二极管转移到阵列基板上时修正层可对MLED进行修正，避免发光二极管在转移后，水平方向和垂直方向的角度不均匀，进而影响发光均匀性。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种阵列基板、阵列基板制作方法及显示装置。

背景技术

发光二极管(Micro LED)显示是新一代显示技术，比现有的有机发光二极管(OLED)显示技术亮度更高、发光效率更好、功耗更低。目前MLED以及Mini-LED技术中需转移的灯珠数量巨大，转移时容易导致水平方向以及垂直方向的角度不一致性导致出光不均匀进而影响显示效果。

发明内容

本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制作方法及显示装置，在阵列基板预先形成图案化修正层，将发光二极管转移到阵列基板上时修正层可对MLED进行修正，避免发光二极管在转移后，水平方向和垂直方向的角度不均匀，进而影响发光均匀性。

第一方面，本申请实施例提供一种阵列基板，包括：

基板；

修正层，设于所述基板上，所述修正层包括阵列排布的多个修正块，所述修正块的多个截面中最大面积的截面设于所述修正块远离所述基板的一侧，所述多个截面平行于所述基板和所述修正块的接触面。

在一些实施例中，所述修正块平行于所述基板的截面的面积随远离所述基板而增大。

在一些实施例中，所述修正块的侧面与所述基板垂直，所述侧面为所述修正块与所述基板相交的端面。

在一些实施例中，所述修正块的厚度小于等于待放入的发光二极管的厚度，所述厚度方向为所述基板法向。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括金属层，所述金属层包含至少一个金属块，所述金属块设于相邻的所述修正块之间的所述基板上，所述金属层用于与发光二极管电连接。

在一些实施例中，所述修正块在所述基板的投影与所述金属块在所述基板的投影之间不相交。

在一些实施例中，所述修正块设为感光阻焊油墨。

第二方面，本申请提供一种阵列基板制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上沉积修正层，并蚀刻出图形得到阵列排布的修正块，所述修正块平行于所述基板的各截面中，最大面积的所述截面设于所述修正块远离所述基板的一侧。

在一些实施例中，所述在所述基板上沉积修正层，并蚀刻出图形得到阵列排布的修正块，包括：

在所述基板上沉积修正层；

获取曝光参数；

根据所述曝光参数在所述修正层上蚀刻出图形得到阵列排布的修正块。

在一些实施例中，所述在所述基板上沉积修正层，并蚀刻出图形得到阵列排布的修正块之后，包括：

在所述基板上沉积金属层，所述金属层包含至少一个金属块，所述金属块设于相邻的修正块之间的基板上。

第三方面，本申请提供一种显示装置，所述显示装置包括发光二极管和上述任意一项所述的阵列基板，所述发光二极管设于所述阵列基板上。