[发明专利]接触电阻的测试版图及测试方法在审
申请号: | 202210272810.7 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN114664796A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 王学伟;杜青松 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/66;H01L27/02;G06F30/392 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 陈万青;张颖玲 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 电阻 测试 版图 方法 | ||
1.一种接触电阻的测试版图,其特征在于,所述测试版图包括:
有源层,所述有源层包括若干个有源区图案;
第一接触栓塞层,所述第一接触栓塞层包括多个重复设置的第一接触栓塞图案;
第二接触栓塞层,所述第二接触栓塞层包括多个重复设置的第二接触栓塞图案;
第一金属层和第二金属层;
所述有源层、所述第一接触栓塞层和所述第一金属层构成第一版图,所述第一版图用来形成第一接触栓塞结构;
所述有源层、所述第一接触栓塞层、所述第一金属层、所述第二接触栓塞层和所述第二金属层构成第二版图,所述第二版图用来形成并联的第一接触栓塞结构和第二接触栓塞结构。
2.根据权利要求1所述的测试版图,其特征在于,所述第一金属层包括若干条第一金属线图案;
所述有源区图案上包括至少两个所述第一接触栓塞图案,每一所述第一接触栓塞图案位于所述有源区图案与所述第一金属线图案的重叠区域,形成所述第一版图。
3.根据权利要求2所述的测试版图,其特征在于,所述第二金属层包括若干条第二金属线图案;
所述有源区图案上包括至少两个所述第一接触栓塞图案和至少两个所述第二接触栓塞图案,每一所述第二接触栓塞图案与所述第一接触栓塞图案重合,且位于所述有源区图案与所述第一金属线图案的重叠区域,所述第二金属线图案覆盖位于同一所述有源区图案上的至少两个所述第二接触栓塞图案,形成所述第二版图。
4.根据权利要求1所述的测试版图,其特征在于,所述第一版图和所述第二版图共用若干个所述有源区图案。
5.根据权利要求3所述的测试版图,其特征在于,所述有源区图案呈S形直链式排布;或,
所述有源区图案沿第一方向和/或第二方向呈阵列排布;其中,所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
6.根据权利要求5所述的测试版图,其特征在于,所述第一金属线图案包括至少一个第一U形图案和至少一个第二U形图案。
7.根据权利要求3所述的测试版图,其特征在于,所述第一版图中所述第一金属线图案的长度之和,等于所述第二版图中所述第一金属线图案的长度之和。
8.根据权利要求1所述的测试版图,其特征在于,所述第一版图还包括两个第一接触衬垫图案;所述第二版图还包括两个第二接触衬垫图案。
9.根据权利要求4所述的测试版图,其特征在于,所述测试版图还包括栅极层,所述栅极层包括若干个栅极图案;
所述栅极图案位于所述有源区图案上,所述第一接触栓塞图案和所述第二接触栓塞图案关于所述栅极图案对称分布。
10.一种接触电阻的测试方法,其特征在于,所述方法包括:
提供待测试结构,所述待测试结构包括有源层、第一接触栓塞层、第一金属层、第二接触栓塞层和第二金属层;
其中,所述有源层、所述第一接触栓塞层和所述第一金属层构成第一测试结构,所述第一测试结构包括第一接触栓塞结构;所述有源层、所述第一接触栓塞层、所述第一金属层、所述第二接触栓塞层和所述第二金属层构成第二测试结构,所述第二测试结构包括并联的第一接触栓塞结构和第二接触栓塞结构;
对所述第一测试结构和所述第二测试结构施加测试电压,以得到所述第一接触栓塞结构的第一接触电阻和所述第二接触栓塞结构的第二接触电阻。
11.根据权利要求10所述的测试方法,其特征在于,所述第一测试结构中包括至少两个第一接触栓塞结构;
在所述第一测试结构中,所述有源层通过所述第一接触栓塞层与所述第一金属层串联连接。
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