[发明专利]一种陶瓷涂层石墨托盘旋转组件

说明书

本发明提供了一种陶瓷涂层石墨托盘旋转组件，包括承载盘和盖板，所述承载盘上设有第一定位结构，所述盖板底部设有第二定位结构，所述第一定位结构与第二定位结构相互配合。所述第一定位结构为第一凹槽或第一凸台，所述第二定位结构为第二凸台或第二凹槽，所述第一凹槽与第二凸台相互配合，所述第一凸台与第二凹槽相互配合。在承载盘与盖板间使用外圆裙边作中心的定位，使用凹凸槽作承载盘与盖板间的旋转角度方向的定位，代替现有的通过两盘间的重力和摩擦力来限位的方法,克服了在旋转时因惯性和气流导致承载盘和盖板间发生相对移位，使产品的生长条件发生改变的缺点，从而有效提高产品的生长质量和良率。

技术领域

本发明涉及半导体器件或材料制造技术领域，特别涉及一种陶瓷涂层石墨托盘旋转组件，适用于所有用于SiC外延片反应腔或高温CVD外延生长炉的石墨盘。

背景技术

近几年随着国家对第三代半导体产业的高度重视，以及在新能源汽车、AI、I oT和5G等新兴产业的推动下，国内第三代半导体产业正迎来飞速发展。

碳化硅功率半导体器件为更小体积、更快速度、更低成本、更高效率的下一代电力电子技术的进步提供了机遇，在智能电网、轨道交通、电动汽车、新能源并网、开关电源、工业电机以及家用电器等领域具有重大的应用前景和产业价值。

目前Si C外延片生长技术主要采用化学气相沉积方法，外延片反应腔是化学气相沉积工艺中的最核心装置，其中石墨托盘组件是反应腔的基础。

石墨托盘组件一般由承载盘、盖板组成，由机械旋转机构带动承载盘旋转运动。现有的技术主要存在以下缺点：承载盘与盖板之间定位不完整，在旋转运动时，由于惯性和反应腔内的气流作用，承载盘和盖板之间发生相对的移位，从而导致产品的生长条件发了改变，进而影响产品的良率。

发明内容

本发明提供一种陶瓷涂层石墨托盘旋转组件，用以解决背景技术提出的技术问题：承载盘与盖板之间定位不完整，在旋转运动时，由于惯性和反应腔内的气流作用，承载盘和盖板之间发生相对的移位，从而导致产品的生长条件发了改变，进而影响产品的良率。

为解决上述技术问题，本发明公开了一种陶瓷涂层石墨托盘旋转组件，包括承载盘和盖板，所述承载盘上设有第一定位结构，所述盖板底部设有第二定位结构，所述第一定位结构与第二定位结构相互配合。

优选的，所述第一定位结构为第一凹槽或第一凸台，所述第二定位结构为第二凸台或第二凹槽，所述第一凹槽与第二凸台相互配合，所述第一凸台与第二凹槽相互配合。

优选的，所述第一凹槽、第二凹槽均为腰形凹槽，所述第一凸台、第二凸台均为腰形凸台；

或所述第一凹槽、第二凹槽均为圆孔凹槽，所述第一凸台、第二凸台均为圆柱形凸台；

或所述第一凹槽、第二凹槽均为三角形凹槽，所述第一凸台、第二凸台均为腰形凸台为三角形凸台。

优选的，所述第一定位结构设置在所述承载盘非中心位置，所述第二定位结构设置在所述盖板底部非中心位置。

优选的，所述承载盘与盖板间使用中心定位的外圆裙边进行中心位置限制，所述第一定位结构和第二定位结构均设置在对应的外圆裙边上。

优选的，所述承载盘和盖板的涂层材料为Si C材料。

优选的，所述承载盘的下端周向均匀布设有若干安装机构，所述安装机构包括：

安装壳，所述安装壳的上端左右两侧对称设有支腿，所述支腿固定设置在所述承载盘的下端，所述安装壳的内部设有调节腔，所述安装壳的上下两端左右两侧连通设有滑动腔，所述安装壳的下端右侧贯通设有开口一，所述安装壳的上端右侧贯通设有开口二，且开口一和开口二处于不同的竖直平面，所述调节腔分别与所述滑动腔、开口一和开口二连通；