[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读记录介质

说明书

本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读记录介质，能够抑制用于清洗基板的清洗液的消耗量。基板处理装置具备：第一清洗部，其构成为利用清洗液对被处理液进行了处理的基板进行清洗；贮存部，其构成为贮存排出液，所述排出液是从第一清洗部排出的清洗液；第一电阻率计，其设置于贮存部，所述第一电阻率计构成为测量贮存部中贮存的排出液的电阻率值；第一供给部，其构成为将贮存部中贮存的排出液供给至第一清洗部；以及控制部。控制部构成为：在由第一电阻率计测量出的排出液的电阻率值为第一设定值以上的情况下，所述控制部控制第一供给部来执行将排出液从贮存部供给至第一清洗部的处理。

技术领域

本公开涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读记录介质。

背景技术

专利文献1公开了一种利用纯水对被药液进行了处理的基板进行冲洗的清洗装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-273077号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开说明一种能够抑制用于清洗基板的清洗液的消耗量的基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读记录介质。

用于解决问题的方案

基板处理装置的一例具备：第一清洗部，其构成为利用清洗液对被处理液进行了处理的基板进行清洗；贮存部，其构成为贮存排出液，所述排出液是从第一清洗部排出的清洗液；第一电阻率计，其设置于贮存部，所述第一电阻率计构成为测量贮存部中贮存的排出液的电阻率值；第一供给部，其构成为将贮存部中贮存的排出液供给至第一清洗部；以及控制部。控制部构成为：在由第一电阻率计测量出的排出液的电阻率值为第一设定值以上的情况下，所述控制部控制第一供给部来执行将排出液从贮存部供给至第一清洗部的处理。

发明的效果

根据本公开所涉及的基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读记录介质，能够抑制用于清洗基板的清洗液的消耗量。

附图说明

图1是表示基板处理系统的一例的俯视图。

图2是表示基板清洗装置的一例的概要图。

图3是表示基板处理系统的主要部分的一例的框图。

图4是表示控制器的硬件结构的一例的概要图。

图5是用于说明在进行基板的清洗处理时对清洗液进行再利用的处理的一例的流程图。

图6是表示已使用液体的电阻率值随时间的经过而变化的情形的曲线图。

图7是表示基板清洗装置的其它例的概要图。

图8是表示基板清洗装置的其它例的概要图。

具体实施方式

在以下的说明中，针对相同要素或具有相同功能的要素使用相同的附图标记，并省略重复的说明。此外，在本说明书中，在提到图中的上、下、右、左时，以图中的标记的朝向为基准。

[基板处理系统的结构]

首先，参照图1来说明基板处理系统1的结构。基板处理系统1包括承载件搬入搬出部2、基板组形成部3、基板组载置部4、基板组处理部5(基板处理装置)以及控制器Ctr(控制部)。

承载件搬入搬出部2包括工作台2a、载置台2b、搬送机构2c以及储存部2d。工作台2a构成为能够载置多个承载件6。载置台2b构成为能够载置一个承载件6。搬送机构2c位于工作台2a与载置台2b之间。搬送机构2c构成为：基于来自控制器Ctr的动作信号进行动作，来在工作台2a、载置台2b以及储存部2d之间搬送承载件6。储存部2d构成为临时保管承载件6。