[发明专利]凸缘构造和真空排气系统在审
申请号: | 202210265170.7 | 申请日: | 2022-03-17 |
公开(公告)号: | CN115132636A | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
发明(设计)人: | 中峰孝久 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 凸缘 构造 真空 排气 系统 | ||
本公开提供一种在使用凸缘将配管彼此连接时能够容许凸缘彼此之间的偏移的凸缘构造和真空排气系统。一种凸缘构造,其将第1配管和第2配管连接,其中,该凸缘构造具有:第1固定凸缘,其设于所述第1配管的前端;第2固定凸缘,其设于所述第2配管的前端;密封构件,其设于所述第1固定凸缘和所述第2固定凸缘中的一者;可动凸缘,其在比所述第2固定凸缘靠里侧的位置,以包围所述第2配管的外周的方式具有框形状,设为能够在与所述第2配管的延伸方向相交的方向上移动;以及固定构件,其将所述可动凸缘固定于所述第1固定凸缘。
技术领域
本公开涉及凸缘构造和使用了该凸缘构造的真空排气系统。
背景技术
以往,公知有一种抑制真空容器的破损的真空处理装置的组装方法(例如,参照专利文献1)。在该真空处理装置的组装方法中,在反应管和排气口分别安装底部凸缘和凸缘构件,利用轴将底部凸缘与凸缘构件互相固定。接着,在将反应管向上方位置抬起而将底部凸缘固定于框体之后,将凸缘构件与排气管互相连接。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-104755号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开提供一种在使用凸缘将配管彼此连接时能够容许凸缘彼此之间的偏移的凸缘构造和使用了该凸缘构造的真空排气系统。
用于解决问题的方案
为了达成上述目的,本公开的一技术方案的凸缘构造将第1配管和第2配管连接,其中,
该凸缘构造具有:
第1固定凸缘,其设于所述第1配管的前端;
第2固定凸缘,其设于所述第2配管的前端;
密封构件,其设于所述第1固定凸缘和所述第2固定凸缘中的一者;
可动凸缘,其在比所述第2固定凸缘靠里侧的位置,以包围所述第2配管的外周的方式具有框形状,设为能够在与所述第2配管的延伸方向相交的方向上移动;以及
固定构件,其将所述可动凸缘固定于所述第1固定凸缘。
发明的效果
根据本公开,能够一边容许凸缘彼此之间的偏移一边进行配管连接。
附图说明
图1是表示纵型热处理装置的结构例的剖视图。
图2是表示纵型热处理装置的结构例的剖视图。
图3是表示本公开的实施方式的真空排气系统的局部的图。
图4是表示将矩形配管彼此连接的情况的例子的图。
图5是表示向由矩形配管构成的通常配管863连接具有本公开的实施方式的凸缘构造的调心配管的例子的图。
图6是本公开的实施方式的凸缘构造的侧视图。
图7是详细地表示本公开的实施方式的密封构造的剖视图。
图8是表示本公开的实施方式的凸缘构造的紧固状态的一个例子的图。
图9是表示通常凸缘和紧固凸缘在通常位置固定连结着的状态的图。
图10是表示向下方和左方偏心的偏心状态下的固定连结的一个例子的图。
图11是表示向上方和右方偏心的偏心状态下的固定连结的一个例子的图。
图12是表示向单方向旋转了1.2度的状态下的连结固定的图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造