[发明专利]配管构造和处理装置

说明书

本公开提供一种能够将多个配管的传导性设为一定并且改善占地面积效率性的配管构造和处理装置。一种配管构造，其将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应设置的所述多个真空泵分别连接，所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。

技术领域

本发明涉及配管构造和处理装置。

背景技术

以往，公知有一种处理装置，该处理装置包括：处理部，其包含相连地配置于第1室的多个处理组件和配置于第1室并收容载体的装载组件，该载体收纳有利用多个处理组件进行处理的基板；以及多个泵单元，其与多个处理组件分别对应地配置于与第1室相邻的第2室，将对应的多个处理组件和多个泵单元连接的连接配管的长度相同(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-113629号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供一种能够使多个配管的传导性一定并且改善占地面积效率性的配管构造和处理装置。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本公开的一技术方案的配管构造将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，

该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，

所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。

发明的效果

根据本公开，能够使多个配管的传导性相同。

附图说明

图1是表示本公开的第1实施方式的处理装置的配置的一个例子的图。

图2是表示本实施方式的配管构造的一个例子立体图。

图3是本实施方式的配管构造的主视图。

图4是本实施方式的配管构造的侧视图。

图5是分解地表示本公开的实施方式的配管构造中的一个配管的分解图。

图6是表示凸缘的结构的一个例子的图。

图7是表示本公开的第2实施方式的配管构造的部分配管的一个例子的图。

图8是表示洁净室设施构造物的开口的一个例子的图。

图9是用于说明配管的偏离幅度的图。

图10是表示路径的设定的想法的图。

图11是表示将偏离幅度设定得较小的配管的形状的一个例子的图。

图12是表示将偏离幅度设定得较大的配管的形状的一个例子的图。

具体实施方式

以下，参照附图，说明用于实施本发明的方式。

[第1实施方式]

图1是表示本公开的第1实施方式的处理装置的配置的一个例子的图。本实施方式的处理装置具有处理组件40、真空泵50和配管构造60。处理组件40设置于第1室10，真空泵50设于第1室10的下层的第2室20。在第1室10与第2室20之间设有洁净室设施构造物30。