[发明专利]配管构造和处理装置

权利要求书

1.一种配管构造，其将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，

该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，

所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。

2.根据权利要求1所述的配管构造，其中，

所述多个配管的各配管针对所述高度方向上的所述多个模块中的每个模块具有由一个配管构成的部分配管，通过将所述部分配管彼此连接，从而分别构成所述多个配管。

3.根据权利要求2所述的配管构造，其中，

多个所述部分配管的各部分配管包含倾斜地设置的倾斜部和沿铅垂方向延伸的直线部。

4.根据权利要求3所述的配管构造，其中，

所述倾斜部的朝向针对所述多个配管中的每个配管而不同。

5.根据权利要求4所述的配管构造，其中，

所述多个配管的各配管包含三个所述部分配管。

6.根据权利要求5所述的配管构造，其中，

对于所述三个所述部分配管，与最上方的所述部分配管的所述倾斜部的长度相比，第二个和第三个所述部分配管的所述倾斜部的长度较大。

7.根据权利要求6所述的配管构造，其中，

第二个所述部分配管和第三个部分配管是相同形状的部分配管。

8.一种处理装置，其中，

该处理装置具有：

多个处理组件，其在第1室相邻配置；

多个真空泵，其在位于所述第1室的下层的第2室配置，并与所述多个处理组件对应地设置，以及

多个配管，其将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应地设置的所述多个真空泵分别连接，

所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。

9.根据权利要求8所述的处理装置，其中，

所述多个处理组件由相同的处理装置构成。

10.根据权利要求8或9所述的处理装置，其中，

所述多个配管的各配管针对所述高度方向上的所述多个模块中的每个模块具有由一个配管构成的部分配管，通过将所述部分配管彼此连接，从而分别构成所述多个配管。

11.根据权利要求10所述的处理装置，其中，

多个所述部分配管的各部分配管包含倾斜地设置的倾斜部和沿铅垂方向延伸的直线部。

12.根据权利要求11所述的处理装置，其中，

所述倾斜部的朝向针对所述多个配管中的每个配管而不同。

13.根据权利要求12所述的处理装置，其中，

所述多个配管的各配管包含三个所述部分配管。

14.根据权利要求13所述的处理装置，其中，

对于所述三个所述部分配管，与最上方的所述部分配管的所述倾斜部的长度相比，第二个和第三个所述部分配管的所述倾斜部的长度较大。

15.根据权利要求14所述的处理装置，其中，

第二个所述部分配管和第三个部分配管是相同形状的部分配管。