[发明专利]一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布及其生产工艺

权利要求书

1.一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布，其特征在于，从抛光接触面至吸附面依次包括助磨涂料层、拒水基垫和弹性垫；

所述拒水基垫由以下方法制备：

步骤一：将偶联填料与复合胶料以及其他助剂混炼制成共混胶料；

步骤二：将共混胶料在120±5℃下硫化25±2min得到一次硫化料，对一次硫化料的表面电晕处理，之后在158±3℃下硫化10-18min，得到拒水基垫；其中，

复合胶料包括溴化丁基橡胶和氯丁橡胶，且两者的用量质量比为1:0.4。

2.根据权利要求1所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布，其特征在于，偶联填料由如下方法制备：

步骤A1：将导电炭黑和纳米二氧化硅通过搅齿造粒机在1200-1500rmp搅拌造粒，制成复合球粒；

步骤A2：取乙醇溶液和硅烷偶联剂Si-69搅拌成偶联液，将复合球粒加入偶联液中浸泡，之后过滤、干燥制成偶联填料。

3.根据权利要求2所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布，其特征在于，导电炭黑和纳米二氧化硅的用量质量比为1:0.5-0.8，导电炭黑的粒径为40±10μm，纳米二氧化硅的粒径为30±5nm。

4.根据权利要求3所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布，其特征在于，复合球粒和复合胶料的用量质量比为4.5-7:100。

5.根据权利要求1所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布，其特征在于，电晕处理电压为12-15kV，电极间隙为1-2mm。

6.根据权利要求1所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1：将拒水基垫与弹性垫胶合；

步骤S2：在拒水基垫的粗糙面表面热涂助磨涂料，控制涂刷量为1.8-2.5g/cm 2 ，之后冷却固化，得到用于贵重金属表面抛光的阻尼布。

7.根据权利要求6所述的一种用于贵重金属表面抛光的阻尼布的生产工艺，其特征在于，助磨涂料由如下步骤制备：

步骤B1：取亲水型聚偏二氟乙烯颗粒和聚乙二醇在氮气氛围下全部熔融，得到成膜胶料；

步骤B2：取磨料采用硅烷偶联剂KH550的乙醇溶液处理，对处理后的磨料干燥并加入成膜胶料中混炼，得到助磨涂料。