[发明专利]一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置及方法

权利要求书

1.一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置，其特征在于，包括：菌种培养器(1)和顶盖(2)，所述菌种培养器(1)顶部开设有开口一，所述顶盖(2)与所述开口一配合连接，其特征在于，还包括：底盖(3)，所述菌种培养器(1)底部开设有开口二，且所述底盖(3)与所述开口二配合连接。

2.根据权利要求1所述的一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置，其特征在于，所述开口二为缩颈开口。

3.根据权利要求2所述的一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置，其特征在于，所述缩颈开口的外壁设有与所述底盖(3)连接的螺纹。

4.根据权利要求1所述的一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置，其特征在于，所述底盖(3)内侧套设有密封圈(4)。

5.根据权利要求1所述的一种食用菌原种制备用防隐性污染的装置，其特征在于，所述菌种培养器(1)由透明材料制备而成。

6.一种食用菌原种制备时防隐性污染的方法，其特征在于，以权利要求1-5任一所述的防隐性污染的装置制备食用菌原种。

7.根据权利要求6所述的一种食用菌原种制备时防隐性污染的方法，其特征在于，具体过程包括：在无菌的条件下，从所述开口一处植入食用菌母种，并盖上所述顶盖(2)，留有呼吸缝隙，置于培养室中培养食用菌原种；待食用菌原种长满所述菌种培养器(1)后，打开所述底盖(3)取种。

8.根据权利要求7所述的一种食用菌原种制备时防隐性污染的方法，其特征在于，所述取种为从所述开口二底端开始采取食用菌原种，弃除离所述顶盖(2)0-5cm的原种。

9.根据权利要求7所述的一种食用菌原种制备时防隐性污染的方法，其特征在于，所述培养为：将接种后的原种置于20-25℃的培养室中，使其萌发走菌。

10.根据权利要求7所述的一种食用菌原种制备时防隐性污染的方法，其特征在于，所述留有呼吸缝隙为：缝隙大小200-300μm，中间放置孔径1-10μm的微孔滤膜。