[发明专利]大孔径激光直写物镜有效

专利信息
申请号: 202210216895.7 申请日: 2022-03-07
公开(公告)号: CN114488491B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 黄木旺;刘旭;匡翠方;林法官 申请(专利权)人: 浙江大学;福建福特科光电股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18;G03F7/20
代理公司: 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙) 35220 代理人: 黄秀婷
地址: 310063 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 孔径 激光 物镜
【说明书】:

发明涉及一种大孔径激光直写物镜。包括沿光线入射方向依次设置的负光焦度的第一群组、负光焦度的第二群组、以及正光焦度的第三群组;其中第一群组为变形双高斯的结构,有利用消除垂轴色差,比如倍率色差、慧差、像差、畸变等;第二群组由双胶合透镜和三胶合透镜组成,有利于消除系统的轴向色差,第三群组中有一枚弯月型单透镜起到齐明透镜的作用,可以大幅提高数值孔径,所述第二群组为内对焦组,并沿光轴方向移动可调。本发明数值孔径NA值在0.6~1.0之间,通过移动第二群组,达到对双光子光刻胶折射率的变动进行适应,同时扩大了像方视场,且倍率色差在衍射极限内。

技术领域

本发明涉及光学镜头领域,尤其为大孔径激光直写物镜。

背景技术

与传统的微纳加工技术相比,激光微纳加工技术具有非接触、结构简单、精度高、绿色环保等优点。随着飞秒脉冲激光双光子微纳加工技术的快速发展,利用双光子吸收效应这种激光与物质作用的阈值效应,通过激光直写加工即可以实现百纳米尺度的分辨率。

激光直写曝光系统其直写光刻分辨率,与光学系统的聚焦能力直接相关。大数值孔径显微物镜具有聚焦能力、高分辨力,非常适合用于聚焦飞秒激光来进行微纳加工,以获得超高的加工精度。

常规的直写曝光系统所采用的无限远校正显微物镜,不针对双光子光刻胶折射率的变化进行专门的优化,以及像方视场不够大。

发明内容

本发明的目的在于:克服以上缺点提供一种大孔径激光直写物镜,该物镜的数值孔径NA值在0.6~1.0之间,通过移动第二群组,达到对双光子光刻胶折射率的变动进行适应,同时扩大了像方视场,且倍率色差在衍射极限内。

本发明通过如下技术方案实现:一种大孔径激光直写物镜,其特征在于:包括沿光线入射方向依次设置的负光焦度的第一群组、负光焦度的第二群组、以及正光焦度的第三群组;

其中第一群组为变形双高斯的结构,有利用消除垂轴色差,比如倍率色差、慧差、像差、畸变等;第二群组由双胶合透镜和三胶合透镜组成,有利于消除系统的轴向色差,第三群组中有一枚弯月型单透镜起到齐明透镜的作用,可以大幅提高数值孔径,所述第二群组为内对焦组,并沿光轴方向移动可调。

为了更好的实施本方案,还提供如下优化方案:

优选地,其中各群组的焦距满足以下关系:

12.5<|fA/fS|<24.5;

1.1<|fC/fS|<3.2;

其中:fA为第一群组的焦距,fC为第三群组的焦距;fS为物镜的焦距;

所述第一群组的焦距fA为:-282mm<fA<-120mm;

所述第三群组的焦距fC为:16mm<fC<25mm。

为了提高分辨率,在第二群组中至少有一枚镜片使用超低色散材料,所述超低色散材料的阿贝数范围为90~100。

为了进一步提高分辨率,在第三群组中至少有两枚镜片使用低色散材料,所述超低色散材料的阿贝数范围为65~100。

较之前技术而言,本发明的有益效果为:

1.本发明所述的一种大孔径激光直写物镜,该物镜的NA值为0.6~1.0之间,并且可对双光子光刻胶折射率的变化进行优化,而且像方视场较大,且倍率色差在衍射极限内。

2.本发明的第一群组为变形双高斯的结构,有利于消除垂轴色差,比如倍率色差、慧差、像差、畸变等,第二群组由双胶合透镜和三胶合透镜组成,有利于消除系统的轴向色差,第三群组中有一枚弯月型单透镜起到齐明透镜的作用,可以大幅提高数值孔径。

3.本发明的第二群组中至少有一枚镜片使用超低色散材料,第三群组中至少有两枚镜片使用低色散材料,可提高系统的分辨率。

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