[发明专利]一种ICP雾化室的清洗装置及清洗方法

说明书

本发明公开了一种ICP雾化室的清洗装置及清洗方法，该清洗装置包括ICP雾化室、转换三通、过滤器、溶液槽和循环泵等，主要利用循环泵带动清洗溶液反复循环冲洗ICP雾化室，并通过转换三通实现ICP雾化室的进样端、出样端和废液端的同时清洗，避免传统清洗方法中高浓度强酸的长时间接触风险，操作简单、清洗效率高、安全无危险、避免造成ICP雾化室的损坏。同时，由于过滤器为可拆洗结构，能实现清洗污垢的过滤，避免清洗溶液槽或超纯水槽的二次污染，还能使一组清洗溶液反复使用，极大降低清洗成本。另外，经清洗吹干后的ICP雾化室干净清洁，在安回仪器后，进样端无积液产生，雾化效果良好，使仪器的雾化气流速和雾化压力指标正常，保证检测结果的准确性。

技术领域

本发明涉及一种ICP雾化室的清洗结构及处理方法，即一种ICP雾化室的清洗装置及清洗方法。

背景技术

ICP雾化室是电感耦合等离子体发射光谱仪和电感耦合等离子体质谱仪的样品雾化场所。ICP雾化室一般与雾化器配套使用，通常采用石英玻璃材质，少部分为聚四氟乙烯等高分子材质。ICP雾化室的结构独特，其进样端、出样端和废液端内径细小而内部腔体宽大，所以清洗相当困难。在日常检测过程中，由于ICP雾化室长期进行不同种类不同浓度样品的雾化，其内部容易结垢，导致雾化效果变差，甚至引入污垢中的杂质成分，影响检测结果的准确性。因此保证ICP雾化室的清洁干净尤为重要。

一般来说，当ICP雾化室的进样端产生积液或者异常发黄时，就需要及时清洗ICP雾化室，传统的清洗方法就是将ICP雾化室拆下整体浸泡于高浓度强酸中，但是由于污垢附着性强，需要浸泡12小时甚至24小时，然后再用纯水清洗干净。这种清洗方式既耗时又有强酸危险，并且清洗溶液还无法重复利用，提高了清洗成本；同时，现有专利都没有涉及ICP雾化室的较好清洗方法，如中国专利CN210520359U中提到的是采用清洗刷伸入ICP雾化室内部进行刷洗的方法，操作过程相当麻烦，特别是由于刷子涉及面的局限性，容易导致清洗的不全面，清洗效果较差，甚至会刮花ICP雾化室内壁，一不小心还会造成ICP雾化室的破碎损坏。

综上所述，传统的ICP雾化室清洗方法不但耗时漫长、有强酸危险，而且还存在损坏ICP雾化室的风险。显然，如果能够提供一种操作简单、安全无害、快速有效，以及对ICP雾化室不会造成任何损坏的清洗方法，无疑是非常有必要的。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷而提供一种操作简单、安全无危险、快速有效、清洗成本低、清洗效果好、不会对ICP雾化室造成任何损坏的ICP雾化室清洗装置及清洗方法。

本发明的技术问题通过以下技术方案实现：

一种ICP雾化室的清洗装置，包括ICP雾化室、过滤器、溶液槽和循环泵，该ICP雾化室具有进样端、出样端和废液端，该过滤器具有过滤进口和过滤出口，该溶液槽具有溶液进口和溶液出口；所述ICP雾化室的出样端和废液端合并连通过滤器的过滤进口，过滤器的过滤出口连通溶液槽的溶液进口，溶液槽的溶液出口连通循环泵后，再连通ICP雾化室的进样端。

所述的溶液槽为清洗溶液槽或超纯水槽。

所述的ICP雾化室与过滤器之间设有转换三通，该转换三通具有第一端口、第二端口和第三端口；所述ICP雾化室的出样端和废液端分别连通转换三通的第一端口和第二端口；所述的转换三通的第三端口连通过滤器的过滤进口。

所述的进样端与循环泵之间、出样端与第一端口之间、废液端与第二端口之间均设有相连通的连接管，该连接管为耐酸腐蚀的聚四氟乙烯软管。

所述的过滤器内设有含0.22μm的高分子微孔过滤膜。

所述的转换三通的第一端口、第二端口和第三端口内分别设有独立控制启闭的阀门。

所述的清洗溶液槽内装有质量浓度为2%~10%的稀硝酸，超纯水槽内装有超纯水。

所述的循环泵转动速度为60rpm~100rpm。