[发明专利]面板亮度分析方法、装置、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202210108674.8 | 申请日: | 2022-01-28 |
公开(公告)号: | CN114444360A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 贾磊;邓创华;肖浪;汪刚 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G06F30/17;G06F119/14 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 尚丹 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 面板 亮度 分析 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种面板亮度分析方法,其特征在于,包括:
获取液晶面板的仿真模型;
根据所述仿真模型确定所述仿真模型各节点的透过率影响参数;
根据所述透过率影响参数计算所述仿真模型各节点的节点透过率;
根据入射光亮度和所述节点透过率确定各节点的透射光亮度值。
2.如权利要求1所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述透过率影响参数包括面板透过率、开口率以及光强吸收系数,所述根据所述仿真模型确定所述仿真模型各节点的透过率影响参数,包括:
根据所述仿真模型确定对应节点之间的液晶盒厚度、基板内部应力、基板厚度以及相对错位量,所述对应节点为所述液晶面板的上玻璃基板和下玻璃基板在初始状态中相互对应的节点;
根据所述液晶盒厚度、所述基板内部应力以及所述基板厚度确定所述面板透过率;
根据所述相对错位量和预设开口率与相对错位量的对应关系,确定所述开口率;
获取所述液晶面板的光强吸收系数。
3.如权利要求2所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述根据所述液晶盒厚度、所述基板内部应力以及所述基板厚度确定所述面板透过率,包括:
根据所述液晶盒厚度确定所述液晶盒琼斯矩阵;
根据所述基板内部应力和所述基板厚度确定所述基板琼斯矩阵;
根据所述液晶盒琼斯矩阵和所述基板琼斯矩阵确定所述面板透过率。
4.如权利要求3所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述基板内部应力包括正应力分量和剪切应力分量,所述根据所述基板内部应力和所述基板厚度确定所述基板琼斯矩阵,包括:
将所述液晶面板的上玻璃基板和下玻璃基板分别分割成若干个玻璃层;
根据所述正应力分量和所述剪切应力分量计算各玻璃层的应力分量;
根据所述应力分量计算各玻璃层的分层琼斯矩阵;
根据所述各玻璃层的分层琼斯矩阵确定所述基板琼斯矩阵。
5.如权利要求3所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述根据所述透过率影响参数计算所述仿真模型各节点的节点透过率,包括:
根据各节点的所述液晶盒琼斯矩阵、所述基板琼斯矩阵、所述开口率以及所述光强吸收系数,计算所述仿真模型各节点的节点透过率。
6.如权利要求1所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述获取液晶面板的仿真模型,包括:
获取预设工况下液晶面板的参数信息;
根据所述参数信息建立仿真模型。
7.如权利要求6所述的面板亮度分析方法,其特征在于,所述根据所述参数信息建立仿真模型,包括:
将初始状态下所述液晶面板的上玻璃基板和下玻璃基板分别离散为壳单元,所述壳单元之间的节点对应一个子像素,所述上玻璃基板的节点与所述下玻璃基板的节点一一对应;
根据所述参数信息对所述壳单元和所述节点赋值,得到所述仿真模型。
8.一种面板亮度分析装置,其特征在于,包括:
模型获取模块,用于获取液晶面板的仿真模型;
参数分析模块,与所述模型获取模块通讯连接,用于根据所述仿真模型确定所述仿真模型各节点的透过率影响参数;根据所述透过率影响参数计算所述仿真模型各节点的节点透过率;
亮度分析模块,与所述参数分析模块通讯连接,用于根据入射光亮度和所述节点透过率确定各节点的透射光亮度值。
9.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括处理器、存储器以及存储于所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序以实现权利要求1至7中任一项所述的面板亮度分析方法中的步骤。
10.一种存储介质,所述存储介质中存储若干指令,其特征在于,所述指令用于供控制器执行以实现如权利要求1至7任一项所述的方法。
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