[发明专利]OPC修正方法

权利要求书

1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、提供需要进行OPC修正的原始版图，所述原始版图中存在密集图形和孤立图形的过渡区域，在所述过渡区域中存在多条半孤立线端，各所述半孤立线端和对应的所述密集图形临近；

在所述过渡区域中存在两条以上的所述半孤立线端对齐于对齐直线上的结构，所述对齐直线和所述半孤立线端的长度方向垂直；

步骤二、在所述原始版图中找到所有所述对齐直线以及各所述对齐直线对应的各所述半孤立线端；

步骤三、进行所述半孤立线端的预调整，包括：沿相应的所述半孤立线端的长度延伸方向进行伸长或缩短来调节所述半孤立线端的侧面位置，使各相邻的对齐于所述对齐直线的两个所述半孤立线端的侧面之间具有第一间距，通过增加所述第一间距增加和所述半孤立线端临近的所述密集图形的OPC修正的工艺窗口；所述原始版图在经过所述半孤立线端调节后成为中间版图；

步骤四、对所述中间版图进行OPC修正。

2.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于：所述原始版图中包括金属层图形，所述密集图形、所述孤立图形和所述半孤立线端都为金属层图形。

3.如权利要求2所述的OPC修正方法，其特征在于：在密集图形区域中，各所述密集图形都呈条形结构且各所述密集图形都沿宽度方向上周期排列。

4.如权利要求3所述的OPC修正方法，其特征在于：所述第一间距的大小保证相邻两个所述半孤立线端的侧面处的OPC修正对临近的所述密集图形的OPC修正的影响区域完全错开。

5.如权利要求4所述的OPC修正方法，其特征在于：所述第一间距大于等于所述密集图形的步进。

6.如权利要求3所述的OPC修正方法，其特征在于：在沿所述密集图形的宽度方向上，所述密集图形区域两侧都存在所述过渡区域。

7.如权利要求6所述的OPC修正方法，其特征在于：和所述对齐直线对齐的所述半孤立线端都位于所述密集图形区域同一侧的所述过渡区域中。

8.如权利要求7所述的OPC修正方法，其特征在于：所述原始版图中，相邻两条所述半孤立线端长度延伸方向相反，相邻两条所述半孤立线端部分重叠或具有间隔，相邻两条所述半孤立线端的侧面之间的间距小于等于具有第二间距，所述第二间距使所述半孤立线端的侧面接近对齐从使得相邻两个所述半孤立线端的侧面处的OPC修正对临近的所述密集图形的OPC修正的影响区域重叠，从而会影响临近的所述密集图形的OPC修正的工艺窗口。

9.如权利要求6所述的OPC修正方法，其特征在于：和所述对齐直线对齐的所述半孤立线端位于所述密集图形区域的相反两侧的所述过渡区域中。

10.如权利要求7所述的OPC修正方法，其特征在于：所述原始版图中，相邻两条所述半孤立线端的长度延伸方向相反，相邻两条所述半孤立线端部分重叠，相邻两条所述半孤立线端的侧面的间距小于等于第二间距，所述第二间距使所述半孤立线端的侧面接近对齐从使得相邻两个所述半孤立线端的侧面处的OPC修正对临近的所述密集图形的OPC修正的影响区域重叠，从而会影响临近的所述密集图形的OPC修正的工艺窗口；

或者，相邻两条所述半孤立线端的长度延伸方向相同，相邻两条所述半孤立线端的侧面的间距小于等于第二间距，所述第二间距使所述半孤立线端的侧面接近对齐从使得相邻两个所述半孤立线端的侧面处的OPC修正对临近的所述密集图形的OPC修正的影响区域重叠，从而会影响临近的所述密集图形的OPC修正的工艺窗口。

11.如权利要求2所述的OPC修正方法，其特征在于：步骤三中，通过对相邻的两条所述半孤立线端中的一条或者两条进行伸长来调整所述第一间距；或者，通过对相邻的两条所述半孤立线端中的一条或者两条进行缩短来调整所述第一间距。