[发明专利]腔体清洁装置

说明书

本发明提供一种腔体清洁装置，装置包括抽吸结构和擦拭结构；抽吸结构包括抽吸基体和过渡管，抽吸基体具有沿自身轴向贯通的抽吸通道，抽吸通道的第一端用于伸入半导体设备的腔体中，抽吸通道的第二端与过渡管连通，过渡管用于外接一抽真空设备；擦拭结构包括驱动马达、与驱动马达连接的转轴、与转轴固定连接的承载块以及设置于承载块上的至少一块无尘布；驱动马达用于驱动转轴围绕自身的中心轴线转动。使用中，工作人员可先使用抽吸结构将腔体底部的颗粒物抽吸出来，随后通过擦拭结构对腔体底部进行旋转擦拭清洁，工作人员仅需在腔体的外部操纵所述的腔体清洁装置，可避免工作人员穿着的无尘服被腔体内的棱角凸出物勾出毛絮而产生额外的污染物。

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，特别涉及一种腔体清洁装置。

背景技术

半导体设备长期工作后，会产生颗粒物并掉落到半导体设备的腔体内，维护保养需要清洁颗粒物。通常地，半导体设备的腔体的空间较大，比如一些半导体设备的腔体的直径超过45cm，深度超过60cm，对半导体设备的腔体进行维护保养和清洁时，通常是工作人员穿着无尘服，身体下倾并趴在腔体的边缘，手持清洁工具伸入到腔体内对腔体进行清洁，此种方式不利于工作人员操作并且容易劳累工作人员。

另外，由于腔体内设置有其他结构部件，会使得腔体内具有较多的棱角凸出物，由于无尘服并非很贴身，在工作人员清洁腔体，尤其是清洁腔体的底部时，容易造成无尘服与腔体内部的棱角凸出物接触，并且被棱角凸出物勾出毛絮从而产生额外的污染物进入腔体中。

发明内容

本发明提供一种腔体清洁装置，以达到在半导体设备的腔体的清洁过程中避免无尘服与腔体内部的棱角凸出物接触的目的。

为达上述目的，本发明提供一种腔体清洁装置，用于清洁半导体设备的腔体，所述腔体清洁装置包括：

抽吸结构，其包括抽吸基体和过渡管，所述抽吸基体具有沿自身轴向贯通的抽吸通道，所述抽吸通道的第一端用于伸入所述半导体设备的腔体中，所述抽吸通道的第二端与所述过渡管连通，所述过渡管用于外接一抽真空设备；

擦拭结构，其包括驱动马达、与所述驱动马达连接的转轴、与所述转轴固定连接的承载块以及设置于所述承载块上的至少一块无尘布；所述驱动马达用于驱动所述转轴围绕自身的中心轴线转动。

可选的，所述抽吸通道的第一端呈扩口状，且扩口状的径向尺寸沿第二端向第一端的方向逐渐增大。

可选的，所述过渡管可伸缩且可弯曲。

可选的，所述抽吸基体的一部分被限制为位于所述半导体设备的腔体之外，所述抽吸结构还包括第一橡胶外套，所述第一橡胶外套套设于所述抽吸基体位于所述半导体设备的腔体之外的一部分上。

可选的，所述抽吸结构还包括第一金属卡箍和第二金属卡箍，所述第一金属卡箍用于固定所述过渡管和所述抽吸基体，所述第二金属卡箍用于固定所述过渡管和所述抽真空设备的真空管。

可选的，所述转轴通过联轴器与所述驱动马达连接。

可选的，所述承载块具有容置孔，所述容置孔沿垂直于所述转轴的方向贯穿所述承载块，所述无尘布通过所述容置孔与所述承载块捆绑连接。

可选的，所述擦拭结构还包括壳体，所述转轴的至少一部分位于所述壳体的内部，且所述转轴通过沿自身轴向设置的至少两个钢珠轴承与所述壳体的内壁连接。

可选的，所述擦拭结构包括第二橡胶外套，所述第二橡胶外套套设于所述壳体上。

可选的，所述腔体清洁装置包括保护层，所述保护层覆盖所述抽吸基体的外表面和所述承载块的外表面。