[发明专利]腔体清洁装置

权利要求书

1.一种腔体清洁装置，用于清洁半导体设备的腔体，其特征在于，所述腔体清洁装置包括：

抽吸结构，其包括抽吸基体和过渡管，所述抽吸基体具有沿自身轴向贯通的抽吸通道，所述抽吸通道的第一端用于伸入所述半导体设备的腔体中，所述抽吸通道的第二端与所述过渡管连通，所述过渡管用于外接一抽真空设备；

擦拭结构，其包括驱动马达、与所述驱动马达连接的转轴、与所述转轴固定连接的承载块以及设置于所述承载块上的至少一块无尘布；所述驱动马达用于驱动所述转轴围绕自身的中心轴线转动。

2.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述抽吸通道的第一端呈扩口状，且扩口状的径向尺寸沿第二端向第一端的方向逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述过渡管可伸缩且可弯曲。

4.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述抽吸基体的一部分被限制为位于所述半导体设备的腔体之外，所述抽吸结构还包括第一橡胶外套，所述第一橡胶外套套设于所述抽吸基体位于所述半导体设备的腔体之外的一部分上。

5.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述抽吸结构还包括第一金属卡箍和第二金属卡箍，所述第一金属卡箍用于固定所述过渡管和所述抽吸基体，所述第二金属卡箍用于固定所述过渡管和所述抽真空设备的真空管。

6.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述转轴通过联轴器与所述驱动马达连接。

7.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述承载块具有容置孔，所述容置孔沿垂直于所述转轴的方向贯穿所述承载块，所述无尘布通过所述容置孔与所述承载块捆绑连接。

8.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述擦拭结构还包括壳体，所述转轴的至少一部分位于所述壳体的内部，且所述转轴通过沿自身轴向设置的至少两个钢珠轴承与所述壳体的内壁连接。

9.根据权利要求8所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述擦拭结构包括第二橡胶外套，所述第二橡胶外套套设于所述壳体上。

10.根据权利要求1所述的腔体清洁装置，其特征在于，所述腔体清洁装置包括保护层，所述保护层覆盖所述抽吸基体的外表面和所述承载块的外表面。