[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种可提高基板的品质的基板处理装置。实施方式是一种基板处理装置，对具有翘曲的基板进行处理，且所述基板处理装置包括：多个搬送辊，将在与基板的搬送方向正交的宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，沿着搬送方向设置有多组，支撑凹面侧并以轴为中心旋转，由此搬送基板；第一轴，将在宽度方向上隔开地设置的两根作为一组，沿着搬送方向设置有多组，安装有搬送辊；以及流体供给部，向基板的凹面供给流体，流体供给部从在宽度方向上隔开的各组的搬送辊之间向基板的凹面供给流体。

技术领域

本发明的实施方式涉及一种基板处理装置。

背景技术

在液晶显示装置或半导体元件等的制造工序中，使用的是对玻璃基板或半导体基板等基板进行处理的基板处理装置。作为基板处理，例如有抗蚀剂涂布处理、抗蚀剂剥离处理、蚀刻处理、清洗处理、干燥处理。基板处理装置一边通过多个搬送辊来搬送基板，一边对于所述基板，通过供给工具来供给例如处理液或干燥用的气体之类的处理用的流体而对基板进行处理。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平11-10096号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

作为搬送对象的基板通常为平板状的基板，但其中也有具有翘曲的基板。例如，当使用厚度薄至1mm左右的基板来作为处理对象基板，在所述基板的其中一个面进行成膜时，基板会因膜的应力而翘曲。因此，有时基板的其中一个面为凹面而另一面为凸面。若如上所述那样具有翘曲的基板将凹面朝上地，由多个搬送辊以保持着翘曲的状态予以搬送，则来自供给工具的处理用的流体会滞留于凹面的中央部，从而对基板的处理会变得不充分或者不均匀。因此，例如有时会发生涂布不均、剥离不均、蚀刻不均、清洗不均、干燥不均等的处理不均，从而基板的品质将下降。

本发明所要解决的问题在于，提供一种可提高基板的品质的基板处理装置。

[解决问题的技术手段]

本发明的实施方式是一种基板处理装置，处理具有翘曲的基板，且所述基板处理装置包括：搬送辊，将在与所述基板的搬送方向正交的宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，沿着所述基板的搬送方向设置有多组，支撑所述基板的凹面侧来搬送所述基板；第一轴，将在所述宽度方向上隔开地设置的两根作为一组，沿着所述基板的搬送方向设置有多组，安装有所述搬送辊；以及流体供给部，向所述基板的凹面供给流体，所述流体供给部从在所述宽度方向上隔开的所述搬送辊之间向所述基板的凹面供给流体。

[发明的效果]

根据本发明的实施方式，可提高基板的品质。

附图说明

图1是表示实施方式的基板处理装置的概略结构的侧视图。

图2是图1的向视A-A'图。

图3是表示图1的实施方式的基板处理装置的概略结构的平面图。

图4是表示另一实施方式的基板处理装置的概略结构的平面图。

[符号的说明]

10：基板处理装置

21：处理室

30：基板搬送装置

31：搬送辊

31a：圆柱部

31b：凸缘状部

31c：第一轴

32：按压辊

32a：第二轴

33：导辊