[发明专利]蒸镀源装置以及真空蒸镀设备

说明书

本申请提供一种蒸镀源装置以及真空蒸镀设备，包括壳体，具有空腔以及与空腔连通的开口；坩埚主体，设置于空腔，坩埚主体能够穿过开口；盖体，设置有蒸镀孔，盖体能够封闭开口且能够与坩埚主体抵接，以限制坩埚主体于空腔。该蒸镀源装置可以减少坩埚主体从壳体的内部中取出或者放入的时间，从而提升效率。

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀源装置以及真空蒸镀设备。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)、有机光伏电池(Organic Solar Cell，OSC)或者电致变色器件(Electrical Condactivity Detector，ECD)的制备过程中，常采用蒸镀法进行无机层和有机层的制备。蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术，其原理为将蒸镀的材料置于真空蒸发源装置的坩埚主体内，通过对坩埚主体加热，使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜。坩埚主体在使用过程中，考虑到蒸镀的材料余量不足或者制作不同产品时，需要对蒸镀材料进行加料或者更换，进而需要将放有蒸镀材料的坩埚主体从蒸镀源装置的壳体中取出或者放回。

但是，在从壳体中取出或者放回坩埚主体时，坩埚主体可能需要被多次调整才能放置正确的位置上。正是由于取放坩埚主体较为困难，将会导致打开壳体的时间延长，降低工作效率。另外，若是壳体的内部长时间暴露在大气中，也会使得残留的材料吸水，影响后续的蒸镀效果。

发明内容

本申请实施例提供一种蒸镀源装置以及真空蒸镀设备，该蒸镀源装置可以减少坩埚主体从壳体的内部中取出或者放入的时间，从而提升效率。

本申请实施例提供一种蒸镀源装置，包括：

壳体，具有空腔以及与所述空腔连通的开口；

坩埚主体，设置于所述空腔，所述坩埚主体能够穿过所述开口；

盖体，设置有蒸镀孔，所述盖体能够封闭所述开口且能够与所述坩埚主体抵接，以限制所述坩埚主体于所述空腔。

在一些实施例中，所述蒸镀源装置还包括第一驱动件，所述第一驱动件设置于所述空腔且与所述坩埚主体连接，所述第一驱动件能够驱动所述坩埚主体由所述壳体内部运动至所述壳体外部。

在一些实施例中，所述第一驱动件为气缸。

在一些实施例中，所述第一驱动件为弹性件。

在一些实施例中，当所述坩埚主体的运动方向与所述坩埚主体的重力的方向相同时，所述第一驱动件的驱动力小于所述盖体与所述坩埚主体的重力总和。

在一些实施例中，所述蒸镀源装置还包括第一卡扣体以及能够与所述第一卡扣体配合的第二卡扣体；

其中，所述第一卡扣体与所述盖体连接，所述第二卡扣体与所述壳体连接。

在一些实施例中，所述盖体与所述壳体转动连接；所述蒸镀源装置还包括第二驱动件，与所述盖体连接，所述第二驱动件能够驱动所述盖体封闭所述开口。

在一些实施例中，所述蒸镀孔的数量为多个，所述多个蒸镀孔均匀分布于所述盖体。

在一些实施例中，所述坩埚主体为线源坩埚主体。

本申请实施例还提供一种真空蒸镀设备，包括上述的蒸镀源装置。