[发明专利]蒸镀源装置以及真空蒸镀设备在审
| 申请号： | 202210095632.5 | 申请日： | 2022-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN114427078A | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 刘建东 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 黄舒悦 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 装置 以及 真空 设备 | ||
1.一种蒸镀源装置，其特征在于，包括：
壳体，具有空腔以及与所述空腔连通的开口；
坩埚主体，设置于所述空腔，所述坩埚主体能够穿过所述开口；
盖体，设置有蒸镀孔，所述盖体能够封闭所述开口且能够与所述坩埚主体抵接，以限制所述坩埚主体于所述空腔。
2.根据权利要求1所述的蒸镀源装置，其特征在于，还包括第一驱动件，所述第一驱动件设置于所述空腔且与所述坩埚主体连接，所述第一驱动件能够驱动所述坩埚主体由所述壳体内部运动至所述壳体外部。
3.根据权利要求2所述的蒸镀源装置，其特征在于，所述第一驱动件为气缸。
4.根据权利要求2所述的蒸镀源装置，其特征在于，所述第一驱动件为弹性件。
5.根据权利要求2所述的蒸镀源装置，其特征在于，当所述坩埚主体的运动方向与所述坩埚主体的重力的方向相同时，所述第一驱动件的驱动力小于所述盖体与所述坩埚主体的重力总和。
6.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀源装置，其特征在于，还包括第一卡扣体以及能够与所述第一卡扣体配合的第二卡扣体；
其中，所述第一卡扣体与所述盖体连接，所述第二卡扣体与所述壳体连接。
7.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀源装置，其特征在于，所述盖体与所述壳体转动连接；所述蒸镀源装置还包括第二驱动件，与所述盖体连接，所述第二驱动件能够驱动所述盖体封闭所述开口。
8.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀源装置，其特征在于，所述蒸镀孔的数量为多个，所述多个蒸镀孔均匀分布于所述盖体。
9.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀源装置，其特征在于，所述坩埚主体为线源坩埚主体。
10.一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的蒸镀源装置。
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