[发明专利]显示装置

权利要求书

1.一种显示装置，其中，包括：

基板；

显示要件，配置于所述基板上；

封盖层，配置于所述显示要件上；

所述封盖层上的第一辅助层；以及

所述第一辅助层上的薄膜封装层，

所述薄膜封装层包括：

所述第一辅助层上的第1-1无机封装层；以及

所述第1-1无机封装层上的第1-2无机封装层，

所述第一辅助层的折射率分别小于所述封盖层的折射率以及所述第1-1无机封装层的折射率，

所述第1-2无机封装层的折射率小于所述第1-1无机封装层的折射率。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述封盖层的折射率为1.6以上且2.3以下。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述封盖层的厚度为50nm以上且150nm以下。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第一辅助层的折射率为1.2以上且小于1.6。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第一辅助层的厚度为20nm以上且100nm以下。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第一辅助层包含氟化锂或者氮氧化硅。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第1-1无机封装层的折射率为1.7以上且2.0以下。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第1-1无机封装层的厚度为100nm至200nm。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，

所述第1-1无机封装层包含氮化硅或者氮氧化硅。

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第1-2无机封装层的折射率为1.5以上且小于1.7。

11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第1-2无机封装层的厚度为400nm以上。

12.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述第1-2无机封装层包含氮氧化硅。

13.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

所述薄膜封装层还包括配置于所述第1-2无机封装层上的缓冲层，所述缓冲层的厚度为30nm以上且100nm以下。

14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，

所述薄膜封装层还包括配置于所述缓冲层上的第二辅助层，所述缓冲层的折射率为所述第二辅助层的折射率和所述第1-2无机封装层的折射率之间。

15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，

所述缓冲层的折射率n3满足以下条件：

min(n1，n2)+|n2-n1|×0.25n3min(n1，n2)+|n2-n1|×0.75，其中，n1表示第1-2无机封装层的折射率，n2表示第二辅助层的折射率，min(n1，n2)表示n1和n2中的最小值，|n2-n1|表示n2和n1之差的绝对值。

16.根据权利要求14所述的显示装置，其中，

所述薄膜封装层还包括配置于所述第二辅助层上的有机封装层以及配置于所述有机封装层上的第二无机封装层。