[发明专利]一种硬化膜及其制备方法

说明书

本发明涉及模内转印技术(IMR)技术领域，具体涉及一种IMR用硬化膜及其制备方法。为了解决现有模内转印用硬化膜的硬化层与基材间难以剥离的问题，本发明提供一种模内转印用硬化膜及其制备方法。所述硬化膜依次包括基材、磁控溅射层和硬化层。所述模内转印用硬化膜的硬化层易从磁控溅射层上剥离，大大改善产品的良率，相对于传统工艺，少了一层油墨附着力增强层，提升了硬化膜的生产效率。

技术领域

本发明涉及模内转印技术(IMR)技术领域，具体涉及一种IMR用硬化膜及其制备方法。

背景技术

随着电镀、喷漆、真木、热转印、数码打印、电泳、蒙皮、水转印等表面处理工艺的不断发展，人们对工业品外观设计要求越来越注重时尚、环保、轻巧化设计。这使得可以一体化注塑成型的模内转印技术(IMR：In-Mold by Roller-Film)越来越受到关注。IMR技术就是通过把图案印刷在膜片上，再将此膜片置于动模壁上，然后将塑胶注塑在膜片的背面油墨层，最后撕下膜片，使膜片上的图案转写至塑胶产品的表面，这是一种实现装饰图案与塑胶基体一体成型的技术。

现有用于模内转印用硬化膜制造工艺繁琐，如图1所示，该硬化膜一般由基膜01、离型层02、硬化层03、和油墨附着力增强层04组成，离型层和硬化层都是通过热反应的形式固化，该过程耗时费力，而其后段要进行油墨印刷、金属蒸镀等工序，其中有进行多次加热的过程，而加热会使离型层与硬化层之间的剥离力增大，剥离力增大会造成硬化层与离型层无法分开或者剥离时有部分硬化层残留在离型层上，造成产品报废，IMR的后段工序会严重影响(严重影响指离型层一般是在基膜上涂一层硅油，多次加热会导致硅迁移到硬化层，离型层硅含量降低，离型力增大。同时，硅转移会导致硬化层膜面发白，耐磨变差)硬化层和离型层剥离，最终影响到整个IMR膜片良率。

发明内容

为了解决现有模内转印用硬化膜的硬化层与离型层难以剥离的问题，本发明提供一种模内转印用硬化膜及其制备方法。所述模内转印用硬化膜的硬化层易从磁控溅射层上剥离，大大改善产品的良率，相对于传统工艺，少了一层油墨附着力增强层，提升了硬化膜的生产效率。

为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案。

本发明提供一种硬化膜，所述硬化膜依次包括基材、磁控溅射层和硬化层。

进一步的，所述磁控溅射层为氮化硅层或氧化硅层。

本发明提供一种硬化膜，所述硬化膜依次包括基材、氮化硅层和硬化层。

本发明使用磁控溅射层取代传统离型层，磁控溅射层不因加热工艺而提高与硬化层的粘结力，增强了基材与硬化层之间剥离力的稳定性，同时，硬化层不会存在硅转移的情况，确保硬化膜产品质量。

进一步的，所述硬化层由光固化组合物形成。

进一步的，所述光固化组合物包括24-35重量份四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，28-38重量份的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，7-10重量份丙烯酸多元醇，2-4重量份的异氰酸酯，0.3-0.7重量份的光引发剂，0.1-0.4重量份的流平剂，0.2-0.4重量份的纳米二氧化硅微粒，24-25重量份的溶剂丁酮。所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙烯酸多元醇，异氰酸酯，光引发剂，流平剂，纳米二氧化硅微粒，和溶剂的总份数为100重量份。

四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物为主树脂。三羟甲基丙烷三丙烯酸酯为表面稀释剂。丙烯酸多元醇和异氰酸酯为油墨附着力增加剂，用于提高硬化层与油墨层的附着力。纳米二氧化硅可增强涂层硬度。

进一步的，所述磁控溅射层为氮化硅层。

进一步的，所述磁控溅射层的厚度为30-70nm。

进一步的，硬化层的厚度为4-8μm。

进一步的，所述基材的厚度为75-188μm。