[发明专利]一种硬化膜及其制备方法

权利要求书

1.一种硬化膜，其特征在于，所述硬化膜依次包括基材、磁控溅射层和硬化层。

2.根据权利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控溅射层为氮化硅层或氧化硅层。

3.根据权利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化层由光固化组合物形成。

4.根据权利要求3所述的硬化膜，其特征在于，所述光固化组合物包括24-35重量份四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，28-38重量份的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，7-10重量份丙烯酸多元醇，2-4重量份的异氰酸酯，0.3-0.7重量份的光引发剂，0.1-0.4重量份的流平剂，0.2-0.4重量份的纳米二氧化硅微粒，24-25重量份的溶剂丁酮；所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙烯酸多元醇，异氰酸酯，光引发剂，流平剂，纳米二氧化硅微粒，和溶剂的总份数为100重量份。

5.根据权利要求4所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控溅射层为氮化硅层。

6.根据权利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述磁控溅射层的厚度为30-70nm。

7.根据权利要求1所述的硬化膜，其特征在于，硬化层的厚度为4-8μm。

8.根据权利要求1所述的硬化膜，其特征在于，所述基材的厚度为75-188μm。

9.根据权利要求3所述的硬化膜，其特征在于，所述光固化组合物包括28-30重量份四官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸酯低聚物，30-32重量份的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，10重量份丙烯酸多元醇，4重量份的异氰酸酯，0.5-0.6重量份的光引发剂，0.1-0.2重量份的流平剂，0.2-0.4重量份的纳米二氧化硅微粒，25重量份的溶剂丁酮；所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物，三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，丙烯酸多元醇，异氰酸酯，光引发剂，流平剂，纳米二氧化硅微粒，和溶剂的总份数为100重量份。

10.一种根据权利要求1-9中任一项所述的硬化膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：

步骤一：在基材上磁控溅射一层磁控溅射层；

步骤二：配置光固化组合物，将光固化组合物涂布到磁控溅射层上方，涂层经干燥、固化，得到硬化层。