[发明专利]光照探针生成方法和装置在审
申请号: | 202210070758.7 | 申请日: | 2022-01-21 |
公开(公告)号: | CN116503541A | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 史成耀 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G06T15/50 | 分类号: | G06T15/50;G06T15/60;A63F13/52 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 王洪 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光照 探针 生成 方法 装置 | ||
1.一种光照探针生成方法,其特征在于,包括:
获取场景内的立方体空间的目标信息,所述目标信息包括场景权重、光源权重或用户权重中的至少一项,所述场景权重用于表征立方体空间中物体分布的复杂程度,所述光源权重用于表征立方体空间受光源的影响程度,所述用户权重用于表征立方体空间对于用户的可见性;
根据所述目标信息确定立方体空间内的光照探针的密度;
根据所述密度在所述立方体空间内生成光照探针。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述场景内包括多个物体,所述目标信息包括场景权重,所述获取场景内的立方体空间的目标信息,包括:
根据所述立方体空间内的物体数量和物体体积确定所述立方体空间的场景权重。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述场景包括光源和光源对应的光源阴影贴图,所述立方体空间内设置有采样点,所述目标信息包括光源权重,所述获取场景内的立方体空间的目标信息,包括:
根据所述立方体空间内采样点的位置、所述光源的位置和所述光源阴影贴图判断所述采样点是否对所述光源可见;
根据所述立方体空间内采样点对光源的可见性和光源的属性确定所述立方体空间的光源权重,所述光源的属性包括光源的光照强度和/或光源的衰减半径。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,所述目标信息包括用户权重,所述获取场景内的立方体空间的目标信息,包括:
根据用户视角信息生成对应的深度图,所述深度图包括多个像素点;
根据所述立方体空间的目标像素点的数量确定所述立方体空间的用户权重,所述目标像素点为位于所述立方体空间内的所述深度图的像素点。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述目标信息还包括历史信息,所述历史信息包括所述立方体空间的历史用户权重和/或所述立方体空间的历史目标像素点的数量,所述根据所述立方体空间的目标像素点的数量确定所述立方体空间的用户权重,包括:
根据所述立方体空间的目标像素点的数量和所述历史信息,确定所述立方体空间的用户权重。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述根据所述目标信息确定立方体空间内的光照探针的密度,包括:
根据所述目标信息确定所述立方体空间的综合权重;
根据所述综合权重确定所述立方体空间内的光照探针的密度。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
根据所述目标信息,确定立方体空间的更新顺序;
根据所述立方体空间的更新顺序,更新所述立方体空间的光照信息。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
根据所述立方体空间的光照信息进行灯光计算。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
将所述场景划分为多个立方体空间。
10.一种光照探针生成装置,其特征在于,所述装置包括处理单元,所述处理单元用于:
获取场景内的立方体空间的目标信息,所述目标信息包括场景权重、光源权重或用户权重中的至少一项,所述场景权重用于表征立方体空间中物体分布的复杂程度,所述光源权重用于表征立方体空间受光源的影响程度,所述用户权重用于表征立方体空间对于用户的可见性;
根据所述目标信息确定立方体空间内的光照探针的密度;
最后根据该立方体空间内的光照探针的密度在该立方体空间内生成光照探针。
11.根据权利要求10所述的装置,其特征在于,所述场景内包括多个物体,所述目标信息包括场景权重,所述处理单元具体用于:
根据所述立方体空间内的物体数量和物体体积确定所述立方体空间的场景权重。
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