[发明专利]一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备

权利要求书

1.一种应用于产生掩模图形的方法，其特征在于包括如下步骤：

提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，多个初始掩模图形周期性或者规律性排布，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；

基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；

选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；

基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；

输出修正后的掩模版图。

2.如权利要求1所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形包括如下步骤：

建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素所包括的内容为该待修正掩模图形的修正规则。

3.如权利要求2所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：所述修正规则包括修正方式和关于对应修正方式下的修正内容，所述修正方式包括待修正掩模图形边的移动、一个待修正掩模图形的整体移动和对该待修正掩模图形添加亚分辨率辅助图形中的一种或者几种，

对应修正方式下的修正内容包括移动的方向和移动数值、添加的亚分辨率辅助的位置信息和尺寸信息。

4.如权利要求3所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素为该待修正掩模图形的修正规则包括如下步骤：

建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵；

将对应的修正方式设置到对应位置的操作矩阵元素中；

将对应的修正内容添加到对应的修正方式处。

5.如权利要求4所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：将对应的修正内容添加到对应的修正方式处具体的操作如下：

根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加。

6.如权利要求1-5中任一项所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：所述初始掩模图形为规则图形，且具有中心点，基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵。

7.如权利要求6所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于：选定所述初始掩模图形中相对靠近边缘元素处的初始掩模图形作为待修正掩模图形。

8.如权利要求7所述的应用于产生掩模图形的方法，其特征在于，当一个待修正掩模图形包括多种修正方式和多种修正内容时，将所有的修正方式和对应的与该待修正掩模图形对应的修正内容存储到操作矩阵的一个位置元素中。

9.一种应用于产生掩模图形的装置，其特征在于其包括

设置模块：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；

位置信息矩阵建立模块：用于基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；

关联模块：选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；

修正执行模块：基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；

输出模块：输出修正后的掩模版图。

10.一种电子设备，其特征在于：其包括一个或多个处理器和存储装置，

存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1-8中任一项所述应用于产生掩模图形的方法。