[发明专利]一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法有效
| 申请号: | 202210025285.9 | 申请日: | 2022-01-11 |
| 公开(公告)号: | CN114195492B | 公开(公告)日: | 2023-02-14 |
| 发明(设计)人: | 杨付乾;崔庆阳;张春杰;郭柳杨;张凤奎;王奔奔;安宁宁;白娜利;焦智宇 | 申请(专利权)人: | 洛阳利尔功能材料有限公司 |
| 主分类号: | C04B35/12 | 分类号: | C04B35/12;C04B35/63 |
| 代理公司: | 洛阳润诚慧创知识产权代理事务所(普通合伙) 41153 | 代理人: | 李团胜 |
| 地址: | 471300 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 水煤浆 气化 锚固 高强 塞头砖 制备 方法 | ||
1.一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述的高强塞头砖包括高强砖体(3)和锚固件(1);所述的高强砖体(3)内设有上部开口的型腔,所述的型腔由上部开口的内孔(5)和两个容纳槽(6)构成,在内孔(5)的侧壁表面设有相互对称的两个限位槽(4),所述的容纳槽(6)也设置在内孔(5)的侧壁表面并与限位槽(4)一一对应;所述的容纳槽(6)为竖向直槽,其上端开口于高强砖体(3)上表面;所述的限位槽(4)为横向圆弧槽,其圆心位于内孔(5)的轴线上,所述限位槽(4)与对应的容纳槽(6)相连通;所述的锚固件(1)其下部具有两个端头,每个端头分别对应一个限位槽(4)并位于限位槽(4)的内部;
所述高强塞头砖的制备方法包括以下步骤:
步骤S1、使用高铬料制作砖体,
所述的高铬料其组分及组分的质量配比为:粒度分别为6~0mm的HA电熔氧化铬材料:60~80,其中,粒度为200~325 目的电熔氧化铬材料为10~20;
粒度为1~5μm 的氧化铝微粉材料:1~10;
氧化铬绿:1~10;
粒度小于320目的锆质材料:1~7;
有机纤维:0.1~3;
低钙铝酸盐水泥:0.1~2;
所述的砖体其制作步骤包括:
步骤S1.1、将步骤S1中所述高铬料的各组分按质量配比称好备用;
步骤S1.2、将步骤S1.1中称量好的氧化铝微粉、氧化铬绿、锆质材料和粒度为200~325目的HA电熔氧化铬,加入震动球磨机机内进行预混合,混合时间为20~30min,制成预混合粉料;
步骤S1.3、将步骤S1.2中获取的预混合粉料与剩余的6~0mm HA电熔氧化铬、有机纤维倒入混碾机进行混合,直至混合均匀,制成主料;
步骤S1.4、将步骤S1.3中制备好的主料倒入搅拌机,然后加入低钙铝酸盐水泥,搅拌3~5min,确保混合均匀后,加入适量水搅拌均匀,制成泥料;
步骤S1.5 、将步骤S1.4中获取的泥料从搅拌机中取出,置入事先固定好的砖体模具内,进行成型;
步骤S1.6、经过12~24小时的50℃养护后,脱模,获得成型砖体;再将成型砖体置于100~200℃的干燥窑内进行养护干燥24~48小时;
步骤S1.7、将干燥后的成型砖体,置于1600℃以上的高温隧道窑或者梭式窑内进行高温烧制,获得高强砖体;
步骤S2、将锚固件固定在高强砖体内的型腔内,使用高铬浇注料对型腔内部进行浇注;
步骤S3、经过12~24小时的50℃养护后,将塞头砖置 于100~200℃的干燥窑内进行养护干燥24~48小时。
2.根据权利要求1所述的一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述的HA电熔氧化铬材料为氧化铬绿经过高温电熔制备而成,HA电 熔氧化铬材料其氧化铬含量≥99.5%。
3.根据权利要求1所述的一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述的氧化铝微粉其Al2O3含量≥99.5%。
4.根据权利要求1所述的一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述的氧化铬绿其氧化铬含量≥99.2%,粒度为1~3μm。
5.根据权利要求1所述的一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述的锆质材料其氧化锆含量大于95%。
6.根据权利要求1所述的一种水煤浆气化炉用锚固型高强塞头砖的制备方法,其特征是:所述步骤S2中的高铬浇注料为步骤S1.4中制得的泥料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洛阳利尔功能材料有限公司,未经洛阳利尔功能材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210025285.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:调色剂盒和调色剂供应机构
- 下一篇:一种自携氧纳米光敏制剂及其制备方法和应用





