[发明专利]超纯水制造系统及超纯水制造方法

说明书

本发明提供一种超纯水的制造系统及制造方法，该超纯水的制造系统在使用超纯水后将含有过氧化氢的使用完的超纯水作为超纯水制造的被处理水进行再利用的超纯水制造中，通过简易的构成，可有助于装置及被处理水的清洁化。一种超纯水制造系统(1)，其是具有前处理部(2)、一次纯水制造部(3)及二次纯水制造部(4)、且用于制造超纯水的超纯水制造系统，其具有：贮存部(5)，该贮存部(5)设置于前处理部(2)的前段或前处理部(2)与一次纯水制造部(3)之间，能够贮存原水或被处理水；回收处理部(6)，该回收处理部(6)对于超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水；和循环机构(7)，该循环机构(7)将由该回收处理部(6)得到的回收水送回至贮存部(5)并使其循环。

技术领域

本发明涉及将使用后的超纯水作为超纯水制造的被处理水进行再利用的超纯水制造系统及超纯水制造方法。

背景技术

超纯水一般将原水通过前处理部和一次纯水制造部除去杂质而制成纯水，将该纯水进一步通过二次纯水制造部进行清洁化处理来制造，该制造的超纯水被供给至使用点(POU)。

一般，前处理部是将凝聚沉淀、砂过滤、活性炭吸附、pH调整等处理装置中的几个组合来构成，一次纯水制造部是将过滤分离处理装置、吸附处理装置、反渗透膜(RO)装置、紫外线氧化装置、脱气装置、离子交换处理装置等组合来构成，二次纯水制造部是将紫外线氧化装置、离子交换处理装置、超滤装置等组合来构成。

此外，在使用点使用后的超纯水(使用完的超纯水)中没有大量地混入药品等的情况下，有时也为了再次利用于超纯水制造而被回收。此时，从使用完的超纯水中除去混入的杂质并进行清洁化、回收处理，制成回收水，被送回至一次纯水制造部。

例如，在半导体制造系统中，在用于半导体晶圆的洗涤的超纯水中，作为其洗涤药品，添加SC-2、SPM、FPM等药液而使用。因此，在使用完的超纯水中，含有硫酸、磷酸、氢氟酸等酸、过氧化氢等。因此，在将半导体洗涤中使用后的超纯水回收的情况下，通过将来源于该洗涤药液并因使用而混入的杂质除去的除去装置进行了回收处理。

作为这样的回收处理中使用的杂质的除去装置，例如已知有下述超纯水制造系统：其具有用于除去过氧化氢的活性炭和用于除去酸成分等的离子交换装置，其中，作为活性炭，将相对于过氧化氢的分解能力高的活性炭和低的活性炭这2种活性炭组合使用，将过氧化氢完全除去(例如参照专利文献1)。

该除去装置是在回收处理部中在离子交换装置的处理之前设置有活性炭的构成。这是由于，离子交换装置相对于过氧化氢的耐性低，此外，由于在离子交换装置中通水中因过氧化氢分解而产生的氧而产生离子交换装置的故障，因此为了维持该装置寿命、能够有效地实施离子交换处理，将在离子交换装置的前段设置除去过氧化氢的活性炭设定为必须的构成。

若进行使用了这样的活性炭的回收处理，则在循环至一次纯水制造部的回收水中，包含过氧化氢的杂质基本被除去，再次作为超纯水制造的被处理水来使用的情况下，能够不考虑因使用时的杂质混入而产生的影响地继续制造超纯水，从而优选。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-181364号公报

发明内容

发明所要解决的课题

可是，在将这样的回收水进行再利用的情况下，一般回收水被暂且贮存在用于与前处理部中得到的前处理水混合的贮存部中，使用在该贮存部内混合而得到的混合水作为被处理水，但由于在这样的贮存部中，混合而得到的混合水会在贮存部内滞留一定时间，因此有时也产生微生物的增殖或来源于其的有机物等的含有等污染。一般而言，作为其应对，在贮存部或其前段的任意的部位添加次氯酸钠来应对，但由于有回收水，因此其添加量增加。