[发明专利]衬底保持器、包括衬底保持器的承载件系统、和光刻设备

说明书

本发明提供一种用于将衬底保持在衬底保持位置中的衬底保持器，包括：框架；多个表面夹紧装置，所述多个表面夹紧装置被布置在所述框架上以在衬底的上表面处夹紧衬底，其中所述多个表面夹紧装置分别具有待布置在所述衬底的所述上表面上的夹紧垫，所述表面夹紧垫能够至少在大体上垂直于由所述表面夹紧垫保持的衬底的所述上表面的第一方向上相对于彼此移动；和一个或更多个致动器，所述一个或更多个致动器用于使所述表面夹紧垫在所述第一方向上相对于彼此移动。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年10月08日递交的欧洲申请20200811.6、于2020年10月23日递交的欧洲申请20203644.8、以及于2021年8月09日递交的欧洲申请21190373.7的优先权，并且这些欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种衬底保持器、一种包括衬底保持器的承载件系统、和一种光刻设备。

背景技术

光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)的图案(也常常被称为“设计布局”或“设计”)投影至被设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

随着半导体制造过程持续进步，几十年来，电路元件的尺寸己不断地减小，而每个器件的诸如晶体管之类的功能元件的量已稳定地增加，这遵循通常称作“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律，半导体行业正追逐使得能够产生越来越小特征的技术。为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定图案化于衬底上的特征的最小尺寸。当前在使用中的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。相比于使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备，使用具有介于4nm至20nm的范围内的波长，例如6.7nm或13.5nm的极紫外(EuV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成较小的特征。

在光刻设备中，一个或更多个衬底保持器用于输送衬底，例如在光刻过程期间，在支撑衬底的衬底支撑件上装载衬底和从所述衬底支撑件卸载衬底。

在衬底保持器的已知实施例中，衬底保持器包括夹紧装置，衬底支撑在夹紧装置的顶侧上。非接触式表面夹紧垫(诸如，涡流垫)用于将衬底保持在夹紧装置上的固定位置中。为了将衬底装载于衬底支撑件上，衬底支撑件设置有可以在竖直方向上移出衬底支撑件的支撑表面的装载销。衬底保持器可以由承载件系统支撑，所述承载件系统可以将衬底装载器布置在一位置中以在经延伸的e形销上装载衬底。随后，可以降低所述装载销以将所述衬底放置在衬底支撑件的支撑表面上。衬底支撑件的支撑表面可以包括突节，衬底支撑在所述突节上。

在衬底保持器的替代实施例中，例如通过表面夹紧垫将衬底保持在衬底保持器的底侧面处。为了将衬底装载于衬底支撑件上，可以由衬底保持器降低衬底，直到衬底支撑在衬底支撑件的支撑表面上或衬底支撑件的装载销上。

在衬底具有显著变形的情况下，将衬底装载于衬底支撑件上可能是具有挑战性的任务。理想地，衬底充分平坦或略呈碗状。这允许衬底在衬底支撑件上的低应力装载，并且衬底在衬底支撑件的支撑表面上的滑动最小。在实践中，衬底可能示出相当大的变形。衬底可以例如具有伞状、碗状、鞍状和其它形状。将变形衬底装载于衬底平台上可能引起经装载的衬底中的内部应力和/或在支撑表面上发生显著滑动，例如，在支撑表面的突节上发生显著滑动。衬底中的内部应力可能导致重叠误差，而衬底在支撑表面上的滑动可能导致衬底支撑件的支撑表面受到磨损，尤其是其突节受到磨损。

归因于突节的粗糙度差异，衬底支撑件的支撑表面的磨损可能导致支撑表面平整度漂移和衬底负载栅格漂移。此外，支撑表面的磨损可能导致重叠问题。

发明内容

本发明的目标是提供一种可以改善变形的衬底在衬底支撑件的支撑表面上的装载的衬底保持器。