[发明专利]具有提高的收集能力的用于收集排放气体中的粉末的设备和设有其的排放气体处理装备在审

专利信息
申请号: 202180065202.2 申请日: 2021-09-21
公开(公告)号: CN116249583A 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 姜明勋;金辰烘 申请(专利权)人: CSK股份有限公司
主分类号: B01D46/76 分类号: B01D46/76;B01D46/42;B01D53/74
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 尚恩垚;郭帆扬
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 提高 收集 能力 用于 排放 气体 中的 粉末 设备 设有 处理 装备
【说明书】:

本发明提供用于在排放气体引入到使用吸附反应处理排放气体的吸附反应装置中之前收集排放气体中包含的粉末的设备,其中用于收集排放气体中粉末的设备包括过滤器本体,其包括过滤排放气体并将它供给到吸附反应装置的过滤器部件且设置在吸附反应装置下方;和壳体,其提供与过滤器部件分离的用于存储粉末的内部空间且安装在吸附反应装置下方,该壳体包括过滤器安装单元,其是吸附反应装置下方突出的空间且在内部提供用于安装过滤器本体的过滤器安装空间,和扩展单元,其形成以便从过滤器安装单元侧向凸出且提供与过滤器安装空间在内部连通的扩展空间,且内部空间由扩展空间扩展以便提高粉末收集能力且用于吸入排放气体的吸取端口安装在扩展单元中。

技术领域

本发明涉及用于处理半导体制造工艺(process)中的排放气体的技术,且更特别地涉及用于收集排放气体中包含的粉末的设备。

背景技术

通过在工艺室中对晶片反复执行诸如光刻、蚀刻、扩散和金属沉积之类的工艺来制造半导体装置。在此类半导体制造工艺期间使用各种工艺气体,且在工艺完成之后在工艺室中存在残余气体。由于在工艺室中的残余气体包含有毒成分,它由真空泵排出且由诸如洗涤器之类的排放气体处理设备净化。排放气体中存在粉末,但排放气体中的粉末要么是在工艺室中生成的副产物,要么是当排放气体中包含的一些成分由于来自工艺室的残余气体通过排放线排出的工艺中温度和压力上的改变而固化时形成的。由于排放气体中的粉末可积聚在排放线中且阻塞流径,它通过安装在排放线上的用于收集粉末的设备来收集。

用于收集粉末的设备典型地由过滤器和容纳过滤器的壳体构成,且没通过过滤器的粉末积聚在壳体的内部空间中并被收集。因为粉末收集能力提高,它有利于改进工艺效率。粉末收集能力取决于壳体的内部空间的尺寸,且因此,有必要有效地增加壳体的尺寸。

现有技术检索

专利

(专利参考文献0001)韩国注册专利第10-1806170号“Dry Scrubber(干式洗涤器)”(07.12.2017)(专利参考文献0002)韩国公布专利公报第10-2003-0063786号“Effluent Gas Dry PurificationApparatusandMethod(流出气体的干式净化设备和方法)”(31.07.2003)

发明内容

待解决的问题本发明的目的是提供具有提高的收集能力的用于收集排放气体中的粉末的设备和设有其的排放气体处理装备。

解决问题的手段

为了实现本发明的目的,根据本发明的一方面,提供用于收集排放气体中的粉末的设备,包括用于使用吸附反应来处理排放气体的吸附反应装置,其中,用于收集排放气体中的粉末的设备包括过滤器本体,该过滤器本体包括过滤排放气体并将它供给到吸附反应装置的过滤器部件且设置在吸附反应装置下方;以及壳体,其提供与过滤器部件分离的用于存储粉末的内部空间且安装在吸附反应装置下方;以及壳体,其提供与过滤器部件分离的用于存储粉末的内部空间且安装在吸附反应装置下方,且该壳体在内部提供用于安装过滤器本体的过滤器安装空间,以及扩展单元,该扩展单元形成以便从过滤器安装单元侧向地凸出且提供与过滤器安装空间在内部连通的扩展空间,且内部空间由扩展空间扩展以便提高粉末收集能力,且用于吸入排放气体的吸取端口安装在扩展单元中。

发明的效果

本发明的上述目标都可借助于本发明来实现。特别地,在其中收集粉末的壳体中侧向地扩展的扩展单元可提高粉末的收集能力且因此增加排放气体处理装备的寿命。

另外,排放气体在壳体的内部空间中流动通过的路程由于壳体内的扩展空间而增加,因此增加由于重力而下落的粉末的量,允许过滤器的寿命延长。

还提供两个气体供应端口,在任意侧上一个,因此允许根据气体供给自的方向来选择,从而减小气体供应节段的长度。

附图说明

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