[发明专利]超纯水供给系统、控制装置以及程序

说明书

超纯水供给系统具有：流通管(210)，使超纯水从超纯水制造设备(100)流向清洗装置(120)；处理单元(110)，设置于流通管(210)上；流通管(220)，在超纯水制造设备(100)与处理单元(110)之间从流通管(210)分支出来，使超纯水流向清洗装置(120)；水量控制部(310)，设置于流通管(220)从流通管(210)分支的第一分支部；水量控制部(320)，对从流通管(220)流向清洗装置(120)的超纯水进行控制；比较部(510)，比较第一量与第二量，第一量是由处理单元(110)处理后的超纯水中含有的杂质的量，所述第二量是未被处理单元(110)处理的超纯水中含有的杂质的量；以及流路控制部(520)，根据比较的结果来控制水量控制部(310、320)。

技术领域

本发明涉及超纯水供给系统、控制装置以及程序。

背景技术

一般而言，从超纯水制造设备向使用点(例如，半导体清洗装置内的使用场所)供给的超纯水的水质满足给定的基准。然而，还存在如下情况：以来自供给配管的离子性金属杂质的溶出等为起因，从超纯水制造设备向使用点供给的超纯水的水质不满足该基准。为了应对这样的情况，考虑了在超纯水制造设备与使用点之间设置对超纯水中含有的杂质进行去除的处理单元的技术(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2015/045975号公报

发明内容

(发明要解决的课题)

在对比文件1中，即使在从超纯水制造设备向使用点供给的超纯水的水质满足给定的基准的情况下，也将从超纯水制造设备供给的水在供给至使用点前由处理单元进行了处理。故而，存在未能高效地利用供给超纯水的系统这样的问题点。

本发明的目的在于，提供能高效地利用供给超纯水的系统的超纯水供给系统、控制装置以及程序。

(用于解决课题的技术方案)

本发明涉及一种超纯水供给系统，具有：第一流通管，其使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置；处理单元，其设置于所述第一流通管上，对所述超纯水进行处理；第二流通管，其在所述超纯水制造设备与所述处理单元之间从所述第一流通管分支出来，使超纯水流向所述清洗装置；第一水量控制部，其设置于所述第二流通管从所述第一流通管分支的第一分支部；第二水量控制部，其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制；比较部，其比较第一量与第二量，所述第一量是由所述处理单元处理后的超纯水中含有的杂质的量，所述第二量是未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量；以及流路控制部，其根据所述比较部的比较结果，来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

另外，本发明涉及一种控制装置，具有：第一水量控制部，其设置于第二流通管从第一流通管分支的第一分支部，所述第一流通管使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置，所述第二流通管在所述超纯水制造设备与设置于所述第一流通管上且对所述超纯水进行处理的处理单元之间从所述第一流通管分支出来，且使超纯水流向所述清洗装置；第二水量控制部，其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制；比较部，其比较第一量与第二量，所述第一量是经过了所述处理单元的第一点上的所述超纯水中含有的杂质的量，所述第二量是从所述超纯水制造设备流过来且未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量；以及流路控制部，其根据所述比较部的比较结果来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

另外，本发明涉及一种程序，用于使计算机执行如下过程：比较过程，比较第一量与第二量，所述第一量是经过了处理单元的第一点上的所述超纯水中含有的杂质的量，所述处理单元设置于使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置的第一流通管上，且对所述超纯水进行处理，所述第二量是从所述超纯水制造设备流过来且未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量；以及控制过程，根据所述比较的结果，来对所述第一流通管中流动的超纯水和所述第二流通管中流动的超纯水进行控制。

(发明效果)