[发明专利]超纯水供给系统、控制装置以及程序

权利要求书

1.一种超纯水供给系统，具有：

第一流通管，其使超纯水从超纯水制造设备流向清洗装置；

处理单元，其设置于所述第一流通管上，对所述超纯水进行处理；

第二流通管，其在所述超纯水制造设备与所述处理单元之间从所述第一流通管分支出来，使超纯水流向所述清洗装置；

第一水量控制部，其设置于所述第二流通管从所述第一流通管分支的第一分支部；

第二水量控制部，其对从所述第二流通管流向所述清洗装置的超纯水进行控制；

比较部，其比较第一量与第二量，所述第一量是由所述处理单元处理后的超纯水中含有的杂质的量，所述第二量是未被所述处理单元处理的超纯水中含有的杂质的量；以及

流路控制部，其根据所述比较部的比较结果，来控制所述第一水量控制部和所述第二水量控制部。

2.根据权利要求1所述的超纯水供给系统，其中，

所述超纯水供给系统具有第二分支部，所述第二分支部分支为使超纯水从所述第二流通管向所述超纯水制造设备返回的第三流通管、以及使超纯水从所述第二流通管流向所述清洗装置的第四流通管，

所述第二水量控制部设置于所述第二分支部。

3.根据权利要求2所述的超纯水供给系统，其中，

所述第一水量控制部具有对从所述第一流通管流向所述处理单元的水量进行调整的第一阀、以及对从所述第一流通管流向所述第二流通管的水量进行调整的第二阀，

所述第二水量控制部具有对从所述第二流通管流向所述第三流通管的水量进行调整的第三阀、以及对从所述第二流通管流向所述第四流通管的水量进行调整的第四阀，

所述流路控制部控制所述第一阀、所述第二阀、所述第三阀以及所述第四阀的每一个的开闭。

4.根据权利要求3所述的超纯水供给系统，其中，

在所述第一量少于所述第二量、且所述第一量与所述第二量的差分为给定值以上的情况下，所述流路控制部使所述第一阀、所述第二阀以及所述第三阀成为打开状态，且使所述第四阀成为关闭状态，在除此以外的情况下，所述流路控制部使所述第一阀以及所述第三阀成为关闭状态，且使所述第二阀以及所述第四阀成为打开状态。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的超纯水供给系统，其中，

所述超纯水供给系统具有：

第五流通管，其在对所述第一量进行测量的第一量测量点和所述第四流通管与所述第一流通管的合流点之间从所述第一流通管分支出来，使超纯水流向所述超纯水制造设备；以及

第五阀，其对从所述第一流通管流向所述第五流通管的水量进行调整。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的超纯水供给系统，其中，

所述超纯水供给系统具有：

第一测量部，其测量所述第一量；以及

第二测量部，其测量所述第二量，

所述第一测量部以及所述第二测量部包含对所述杂质进行捕捉的离子交换体。

7.根据权利要求6所述的超纯水供给系统，其中，

所述离子交换体是整块状离子交换体。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的超纯水供给系统，其中，

所述超纯水供给系统具有：

第一测量部，其测量所述第一量；以及

第二测量部，其测量所述第二量，

所述第一测量部以及所述第二测量部包含能将直径10nm以上的微粒作为所述杂质进行捕捉的过滤膜和离心过滤机构。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的超纯水供给系统，其中，

所述处理单元具有：

彼此并联连接的多个去除构件，从流入该处理单元的所述超纯水中去除所述杂质；以及

第六阀，其使所述超纯水在所述多个去除构件当中的任一个去除构件中流通。