[发明专利]控制治疗剂从可植入装置释放的速度的方法在审

专利信息
申请号: 202180053004.4 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN115989020A 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: R·奥尔夫;L·戈登;W·罗达 申请(专利权)人: 纳米精密医疗公司
主分类号: A61K9/00 分类号: A61K9/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王子楠;林晓红
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 控制 治疗 植入 装置 释放 速度 方法
【说明书】:

本公开提供治疗剂和用于控制所述治疗剂从可植入药物递送系统的储库释放的速度控的制剂的组合物。本公开还包括合并本公开的组合物的可植入药物递送系统以及用所述组合物和可植入药物递送系统治疗糖尿病的方法。

相关申请的交叉引用

本申请要求2020年7月8日提交的美国临时专利申请63/049,573号的优先权,所述申请的内容通过引用全文纳入本文以用于所有目的。

发明背景

许多对象、人以及动物需要用治疗剂长期治疗。为了提高粘附性,许多对象会受益于可植入装置提供的粘附,该装置以想要的速度释放出想要的治疗剂,持续一段延长的时间。尽管研究多年,仍需要开发这样的装置,且特别是用于在植入待治疗对象后,控制治疗剂从这些装置释放的速度的方法。本公开满足此需求并且提供额外优势

发明概述

在一个实施方案中,本公开提供制治疗剂从可植入装置释放的速度的方法,所述方法包括:

提供所述装置,所述装置包含:

容器(capsule),其配置用于植入且具有储库(reservoir);

治疗剂的流体制剂,其包含于所述储库内且具有pH;

具有多个孔的纳米多孔膜,其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径;

其中治疗剂通过多孔膜的释放速度取决于制剂的pH;和

选择所述制剂的pH,所述pH的水平适合实现想要的治疗剂释放的速度。

在另一个实施方案中,本公开提供一种控制具有等电点的治疗剂从可植入装置释放的速度的方法,所述方法包括:

提供所述装置,所述装置包含:

容器,其配置用于植入且具有储库;

治疗剂的流体制剂,其包含于容器内且具有pH;

具有多个孔的纳米多孔膜,其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径,所述纳米多孔膜具有纳米孔,所述纳米孔具有内表面;所述内表面具有等电点;

其中所述释放的速度由所述治疗剂与纳米孔的内表面之间的电荷相似性程度决定;和

选择所述制剂的pH以实现想要的电荷相似性程度。

在另一个实施方案中,本公开提供用于以受控速度释放治疗剂的可植入装置,所述装置包含:

容器,其配置用于植入且具有储库;

治疗剂的流体制剂,其包含于容器内且具有pH;

具有多个孔的纳米多孔膜,其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径;

其中所述治疗剂通过所述纳米多孔膜释放的速度取决于所述制剂的pH;和

其中所述制剂的pH适合实现想要的治疗剂释放的速度。

在另一个实施方案中,本公开提供治疗剂制剂,其用于以受控的速度从可植入装置释放治疗剂,所述制剂具有pH且包含于可植入装置的储库,所述装置包含:

容器,其配置用于植入且具有储库;

具有多个孔的纳米多孔膜,其附于所述容器并提供所述治疗剂释放出所述储库的扩散路径;

其中所述治疗剂通过所述多孔膜释放的速度取决于所述制剂的pH;和

其中所述制剂的pH适合实现想要的治疗剂释放的速度。

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